二手 AMAT / APPLIED MATERIALS AMC 7811 #9315232 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS AMC 7811 Reactor是來自AMAT的單晶圓、高密度等離子體反應器，用於生產介電層、薄膜介電層、金屬層等先進技術層。氧化氮化矽（SiON）沈積過程是該反應器的主要用途。該反應器由於工藝控制嚴密、氣流靈敏度低、均勻性好，具有薄膜厚度、蝕刻速率、沈積速率、均勻性等參數，特別適合先進的半導體工業。AMAT AMC 7811是一個具有等離子體源和壓力控制設備的反應室，以及一個對沈積過程進行精確控制的原位直流偏置。它具有25至350°C的溫度範圍和0.01至200 torr的壓力範圍。基材最大尺寸--或晶圓尺寸--為380mm。系統平均沈積速率為每分鐘2.5至5納米，蝕刻速率高達每分鐘5納米。應用材料AMC-7811使用射頻等離子體，而不是傳統的CVD方法，沈積氧化物層。使用這一單元可以沈積的材料種類包括矽氧烷基SiON、二氧化矽、氧化ha、鈦和氧化鋁。這臺機器在整個晶片上具有很強的均勻性，非常適合薄膜電介質和金屬層。除此之外，AMAT AMC-7811采用原地清潔功能，可以準確控制工藝參數。此過程由軟件中的「原位清潔」功能啟動,該功能在清潔環境中將晶片加熱到預定義的溫度。這樣可確保晶片得到清潔,並為後續過程進行充分的預處理。AMC-7811有一個內置的計算機工具，它可以根據沈積材料的類型和基板自動調整工藝參數。這樣可以快速、準確地設置流程,並確保用戶獲得最佳結果。流程數據由資產記錄,用於性能分析和故障排除。APPLICED MATERIALS AMC 7811是生產介電層、薄膜介電、金屬層等先進技術層的理想選擇。它具有很好的工藝控制、均勻性和較低的氣流靈敏度，特別適合半導體工業。使用射頻等離子體和惰性氣體清洗確保了沈積層的高質量和一致性。模型的自動化功能可確保高效的流程設置。所有這些功能使AMAT/APPLIED MATERIALS AMC-7811各種應用的絕佳選擇。