二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 Radiance #9260521 待售

AMAT Centura 4.0 Radiance反應堆是為高級半導體應用而設計的等離子體反應堆。這種高度靈活、低壓的單晶片反應器被設計用來處理多種材料，包括矽、​​的、的和幾種化合物半導體材料。通用的Centura 4.0 Radiance反應器允許多種工藝序列，特別是對於先進的晶體管、IC和異構內存應用。它的等離子體是由射頻（RF）源產生的，由​​氙氣、氧氣或氮氣提供等離子體激發的電子。該反應器還允許在使用氣相輸送系統的蝕刻過程中引入摻雜劑。Centura 4.0 Radiance設計有大腔室和更寬的晶圓區域，允許低壓蝕刻和沈積更大面積的材料，同時與標準速率蝕刻工藝相比也實現了更好的均勻性。這是由於它能夠使用移動速度更快的離子，更高的離子與中性氣體的比例，以及減少離子碰撞以實現更高效的低壓蝕刻。Centura 4.0 Radiance還配備了APPLIED MATERIALS專利的等離子體輔助端點控制PEPC™系統）系統,該系統優化了端點檢測以實現精確蝕刻,從而能夠快速響應實時過程更改。其嵌入式專用端點技術允許連續蝕刻，最大限度地提高工藝產量，提高設備吞吐量顯著快於傳統等離子蝕刻仿真系統。Centura 4.0 Radiance反應堆是為經濟高效地生產設備而設計的,它采用了諸如接觸對準、晶片卡盤清洗、低壓蝕刻、動態壓力控制和晶片與基板對準等豐富的工藝選擇。它提供了比標準蝕刻解決方案更多的優點，包括增加晶圓均勻性、更高的蝕刻速率和減少蝕刻偏差。總體而言,Centura 4.0 Radiance是一款功能強大、用途廣泛的半導體制造和高級設備處理工具。憑借強大的設計和全面的功能,它非常適合當今苛刻的設備開發挑戰。