二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL #9200079 待售

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL是一種先進的半導體加工反應器，專門設計用於提供高性能的等離子體蝕刻應用。此高性能工具提供了出色的蝕刻均勻性、選擇性和一致性。開發該工具是為了能夠以成本效益高的方式制造具有小臨界尺寸的復雜結構。AMAT Centura 5200 ACL采用單晶圓、多室等離子體蝕刻反應器設計。這座反應堆的設計融合了一個專利的，低電感場耦合等離子體（FCP）源，在整個過程腔室產生更均勻的等離子體。這為該工具提供了卓越的蝕刻均勻性和可重復性。另外，機器還利用均勻的雙峰電子回旋共振（ECR）源進行更精確、一致、可重復的等離子體蝕刻過程。APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL還支持一步蝕刻，從而無需多次蝕刻工藝。這樣可以實現更快、更可靠和更經濟的生產。反應堆的中板還包括先進的溫度控制系統，以確保超細溫度控制。這允許高度精確的等離子體蝕刻過程。低電感FCP等離子體源還允許將該工具配置為運行HBr、Cl2和SF6進程,從而進一步支持同一工具上的各種進程。Centura 5200 ACL采用緊湊的設計,配有兩個隔離閥、一個泵送系統和一個通用氣體面板的方便分隔室。這使得該工具的安裝和維護相對簡單，非常適合快速、低維護的生產。反應堆還包括一個頂級診斷包，其中包含先進的硬件和軟件，可以更好地控制和監測等離子體蝕刻。這確保了生產過程中可靠且可重復的過程。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL是一款先進的性能蝕刻工具,其設計目的是為復雜的結構制造提供出色的蝕刻均勻性、選擇性、一致性和經濟的生產,並具有較小的臨界尺寸。多室等離子體蝕刻反應器具有許多特點，如低電感FCP源、雙峰ECR源、溫度控制系統以及用於更大程度控制和監測的診斷包，使其成為高通量、經濟高效地制造一系列電路設計的理想選擇。