二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 #171348 待售

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ID: 171348
Metal etcher, 8" (2) DPS R1 Metal chambers with (QTY 2) Seiko-Seiki STP-H1000C (2) ASP+ chambers Robots: HP+ Wafer shape: No notch SMIF interface: No MF Facilities: Bottom Loadlock type: narrow body with auto-rotation Loadlock slit valve O-ring: Viton O-ring Chamber A: DPS R1 metal Chamber B: DPS R1 metal Chamber C: ASP+ Chamber D: ASP+ Chamber E: Single slot cooldown Chamber F: Orienter chamber Process A: Metal Process B: Metal Process C: Strip Process D: Strip 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1反應器是為半導體生產而設計的高通量化學氣相沈積(CVD)設備。它提供了廣泛的功能,使其成為各種應用程序的理想選擇。該系統加強了過程控制,確保了一致的高質量存款,這些存款沒有多余的材料,從而提高了產量,縮短了上市時間。AMAT Centura 5200 DPS R1提供了具有高度靈活性的多區反應堆設計和自動化控制系統。這樣可以在過程運行過程中精確控制氣流和熱能沈積。此外,該裝置采用多噴嘴設計,具有獨立的氣體控制功能,能夠以最小的限制對小面積或大面積進行處理。該機還提供了一個高溫爐,可以達到高達1400°C的溫度。這使得任何材料都具有極好的熱均勻性和高效率的加工。該工具還允許使用先進的嵌入式軟件對沈積過程進行現場監測和控制。這為高性能CVD過程提供了更高水平的控制和準確性。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1還具有用於跟蹤、歸檔和分析結果的高級數據管理資產。該模型還采用了10室裝貨鎖設計,從而縮短了設備周期,降低了擁有成本。最後,該系統配備了一個創新的流量控制單元,可以靈活地微調氣流,而無需復雜的關閉閥。總之,Centura 5200 DPS R1提供了其他CVD系統無法比擬的功能和靈活性的組合。其先進的技術使其成為跨一系列應用程序的高效、高質量CVD過程的理想解決方案。其精確控制氣流、熱能和工藝數據的能力提供了無與倫比的性能和準確性。
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