二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS #9211801 待售
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已售出
ID: 9211801
晶圓大小: 6"
優質的: 1998
Metal etcher, 6"
P/N: 0010-70789
Chamber
Centura mainframe
(3) Process chambers
Chamber A: DPS Metal
Chamber B: DPS Silicon
Chamber C: MxP+ Oxide, MxP+ RF match
Chamber E / F: Remote orienter
Centura Gas panel
Narrow body tilt-out loadlocks
End point detection
HP Robot
Centura DPS Cathode
(2) SEIKO SEIKI STP-301CB1 Turbo molecular pumps
Power distribution cabinet
Remote power supply cabinet:
(2) SEIKO SEIKI STP-A1303C Controllers
APC Backup battery
SEIKO SEIKI STP-H1000C Control unit
RFPP LF-5 RF Power supply
RFPP RF20R Generator
ADVANCED ENERGY HFV 8000 RF Generator
(2) ENI OEM-12B3 RF Generators
(2) NESLAB HX-150 Chillers
(2) EDWARDS iH80 Pumps
(2) EDWARDS QDP80 Dry pumps
(2) APPLIED MATERIALS Heat exchanger carts
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 3 Phase, 320 A
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS是一種大型的200 mm沈積設備,設計用於在大面積上沈積高度保形的材料層。該反應堆具有高精度、多區基板溫度控制、熱控沈積室以及可調節以滿足每個晶圓基板形狀的三式氣體輸送系統。該單元被設計為兼容包括化學氣相沈積（CVD）、原子層沈積（ALD）和原子層蝕刻（ALE）在內的多個制造工藝。AMAT Centura 5200 DPS是一款先進的機器，用於沈積具有高均勻性、可重復性和基板覆蓋率的薄膜。它能夠以高達每小時1000納米的速度沈積高達200-500納米厚的薄膜。底盤由鋁、矽和不銹鋼組成，在不犧牲熱性能的前提下實現最大耐用性。它還具有一個大型的鐘形罐，可以容納多種工具，能夠在一個工具中保持多個半徑和管長。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS是為便於使用、維護和清潔而構建的。它具有板載非接觸晶片映射資產，可實現可重復、安全且無汙染的晶片移動。它還具有自動壓力控制和質量流量控制器，以確保準確性和可重復性。該模型具有全自動流程和手動命令,因此用戶可以根據需要快速調整流程。Centura 5200 DPS還配備了自動泄漏測試設備,可以檢測任何氣體泄漏或斷裂。通過自動檢查系統的完整性，用戶可以快速做出調整，避免昂貴的維修或延誤。該機組還擁有先進的熱管理機，可以更高效地調節壓力和溫度。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS是一種用於高質量薄膜沈積的可靠沈積工具。它非常適合生產高精度的先進材料和納米結構，如MEMS和NEMS，具有高精度和重復性。該資產為芯片制造商、研究和實驗室應用結合了性能和先進的多區域溫度控制技術。
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