二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9091401 待售

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ID: 9091401
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
ILD System, 8" Mainframe: Centura 5200 Transfer chamber: Centura 5200 (2) Loadlock chambers: narrow body (4) Process chambers: DxZ Robot: HP+ Loading configuration: narrow body dual auto-indexer loader System controller / AC power box (2) CRT monitors with light pen RF generator rack Heat exchanger: AMAT 0 Chamber A: DxZ Chamber B: DxZ Chamber C: DxZ Chamber D: DxZ Chamber E: MS Cool Gases: TEOS, O2, NF2, N2 Software version: E3.0 208VAC, 3 Phase 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ是一種下一代等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)反應器,設計用於將先進的材料層沈積在用於集成電路(IC)制造的基板上。PECVD工藝是傳授厚度均勻且無缺陷的沈積膜的手段。AMAT Centura 5200 DxZ配備了多項功能,可增強性能並實現廣泛的流程功能。它有兩個腔室,每個腔室都有獨立的電源,最多可同時安裝兩個薄膜。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ還得益於徑向溫度剖面儀、可變RF偏差和具有多個真空級別的先進泵送系統。反應堆基於高通量、低成本的制造平臺,由AMAT專有的Simul-ProcessTM技術增強。該技術結合了實驗和數值優化技術,以確保高質量薄膜和最佳沈積速率。Centura 5200 DxZ在廣泛的過程中提供一致和可靠的結果,包括低和高k介電沈積、薄膜封裝、側壁剖面分析、源/排水工程以及淺層溝槽隔離。此外,其先進的腔室設計可防止金屬汙染沈積,並防止顆粒進入真空腔室,否則會對沈積的薄膜造成幹擾和缺陷。APPLIED MATERIALS還提供了一系列工藝選項,以及同時執行多個工藝的功能。這些功能使用戶能夠利用其增強的吞吐量並減少總處理時間。此外,該系統的設計能耗比其前代產品少,使其成為一個對環境負責的選擇,並且能效更高。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS提供了監測系統性能和優化流程的工具,從而延長了設備壽命並降低了擁有成本。總體而言,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200 DxZ是一種先進、高效和經濟的PECVD反應堆,旨在滿足業界最嚴格的底物要求。它在一系列工藝選項中提供了卓越的性能、多功能性和生產率,確保了用於集成電路(IC)制造的先進薄膜的最佳沈積效果。
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