二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9206456 待售
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ID: 9206456
晶圓大小: 8"
CVD System, 8"
Chamber A:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber B:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber C:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber E: MS Cool
Mainframe:
System placement: Through the wall
Robot type: HEWLETT-PACKARD Robot
Robot blade: Nickel coated AL
OTF: Yes
W/F Position sensor: Yes
Loadlock:
Loadlock cassette: Narrow
Wafer slide sensor: Yes
Wafer mapping: Basic
N2 Purge type: TYLAN 2900
System monitor:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Generator rack:
(3) Racks
Generator 1: AE RFG 2000-2V
Generator 2: AE RFG 2000-2V
Generator 3: AE RFG 2000-2V
Heat exchanger:
APPLIED MATERIALS, AMATO
Chiller: No
Dry pumps: No
Signal tower: No
Umbilicals:
Monitor: 55 ft
Signal cable length (S/C ~ MF): 50 ft
HX Cable length: 55 ft
Gas delivery option:
MFC Type: STEC 4400 MC
Valves: Veriflo 10 ra max
Filters: MILLIPORE
Transducers: MKS W/O Display
Regulators: Veriflo
Single line drop (SLD): No
System cabinet exhaust: Top
System controller:
Slot Rack BD
2 System Reset
3 Lk Det 1 &2 or Conv/TC
4 Lk Det 3&4 or Conv/TC
5 Lk Det 5&6 or Conv/TC
6 Lk Det 7&8 or Conv/TC
9 EWOB Centerfinder
12 Floppy disk drive
13 Hard disk drive
14 Chamber A interface
15 Chamber B interface
16 Chamber C interface
17 Chamber D interface
18 Chamber E interface
19 Mainframe interface
20 Loadlock interface
22 Chamber A Dl/O 2
23 Chamber B Dl/O 1
24 Chamber B Dl/O 2
25 Chamber C Dl/O 1
26 Chamber C Dl/O 2
29 Chamber E Dl/O
30 Synergy SBC(V440)
32 Video
33 I/O Expansion
34 SEI
35 Chamber A Al/O
36 Chamber B Al/O
37 Chamber C Al/O
39 Mainframe Al/O 1
40 Chamber E/MF Al/O 2
41 Mainframe Dl/O 1
42 Mainframe Dl/O 2
43 Mainframe Dl/O 3
44 Mainframe Dl/O 4
45 Mainframe Dl/O 5
46 Mainframe Dl/O 6
47 Stepper 1
48 Stepper 2
49 Stepper 3
50 OMS (VMEX)
RF Generator:
Chamber Maker Model
A AE RFG 2000-2V 3155053-003B
B AE RFG 2000-2V 3155053-003B
C AE RFG 2000-2V 3155053-003B
RF Match box:
Match multifunctional ADPTR
With interlock 7-J14 OHM
Chamber Maker Model
A AE 155077-003B
B AE 315S077-C03A
C AE 315S077-C03A
Power: 200/208 V, 240 A.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ是一種高性能、多處理等離子體增強型化學氣相沈積（PECVD）反應器，用於生產半導體、顯示器和光伏行業的先進材料。此工具旨在讓客戶通過單一系統解決各種材料加工難題,例如高生產率的氧化物層、用於PERL應用的PECVD a-Si材料的沈積,以及在大直徑基板上的薄層沈積。它在三個維度上提供了卓越的特征控制,提供了對關鍵組件拓撲結構的精確控制.AMAT Centura 5200 DxZ配備了一些業界最先進的腔室工程。它有一個晶片基板幾何形狀，能夠加工各種尺寸的基板，最大為8英寸，由一個高度工程化的預處理室和一個主（加工）室組成。為了確保過程操作過程中的均勻性和一致性，對腔室進行溫度控制和嚴密監控，以確保溫度條件穩定。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ還配備了許多直觀的軟件包,可實現自動化的過程控制、溫度實時監控和可編程的配方創建。這允許在生產過程中優化刀具效率和過程一致性,並有助於降低擁有成本。為了提高吞吐量,Centura 5200 DxZ提供了多種高級功能,包括雙噴嘴設計（可同時處理兩個基板）和雙相調制過程（可實現更高的沈積率）。腔室設計還包括先進的無窗蒸發技術，這有助於減少維護周期的數量，並進一步降低生產成本，而不是傳統的方法。此外，AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ采用高效的工藝氣體輸送系統，有助於減少前體和化學品的使用，從而有助於降低材料成本和減少對環境的影響。AMAT Centura 5200 DxZ是一種高度先進且用途廣泛的反應堆,為用戶提供了一種先進的解決方案,用於以嚴格的精度生產先進材料。通過使用直觀、高度自動化的軟件和各種高級功能,它能夠滿足依賴高級材料加工的行業不斷變化的需求。
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