二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax #9183472 待售
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ID: 9183472
Etcher, 8"
Wafer shape: JMF
SMIF Interface: No
System information:
Chamber A,B &C: eMax
Chamber D & E: No
Chamber F: Orientor
Loadlock A & B: Narrow
(6) Wafer sensors
EPD Controller
System placement: System alone
Chamber details:
Chamber A, B & C:
RF Match: 0010-30686
RF Generator: OEM-28B
ALCATEL ATH1600M Turbo pump
Throttle valve
Monometer: TYPE127 1TORR
System monitor:
Monitor 1: Stand alone
Mainframe:
Robot type: HEWLETT-PACKARD+
L/L Wafer mapping
Slit valve / Plate type: Standard
Robot blade: Ceramic
W/F Slippage sensor
N2 Purge
Heat exchanger: No
Dry pumps: No
Signal tower: No
Gas panel configuration:
Chamber A, B & C: (7) Chambers
Chamber A:
CL2 100 sccm SEC-4400M
CF4 100 sccm TYLAN 2900
N2 100 sccm SEC-4400
AR 300 sccm SEC-4400M
O2 5 slm SEC-4400M
CHF3 20 sccm SEC-4400M
CF4 100 sccm SEC-4400M
Chamber B:
C4F8 50 sccm SEC-7440MC
CO 500 sccm SEC-7440MC
N2 100 sccm SEC-4400
AR 200 sccm SEC-4400M
O2 50 sccm SEC-4400M
CHF3 100 sccm SEC-4400M
CF4 50 sccm SEC-4400M
Chamber C:
CL2 100 sccm SEC-7440MC
CHF3 50 sccm TYLAN 2900
N2 100 sccm SEC-4400
AR 2 slm SEC-4400M
O2 5 slm SEC-4400M
CHF3 20 sccm SEC-4400M
CF4 50 sccm SEC-4400M
Missing parts:
(2) Slit valves
(3) Flow sensors / Coolant lines
EDP Monitor
Liner for chamber B
Power: 208 VAC, 50/60 Hz, 4 Wire, 3 Phase delta
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax是一種高度先進的集成電子束晶圓加工反應器系統,能夠進行多層光敏沈積和去除。它是先進的半導體器件制造、生物傳感器開發和納米結構創建的最佳平臺。AMAT Centura 5200 eMax使用電子束(e-beam)光刻技術進行光刻沈積和去除,光束電流水平在5 nA至200 mA之間。電子束沿著圓形軸運行,並產生一個電場,用於將抗蝕層蒸發到基板中。APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax具有多用戶界面,使用戶能夠同時執行多個處理步驟。該系統提供了一個可控的大氣,既能抵抗沈積,又能消除沈積,還能提供溫度、壓力和氣體/濕度控制能力,這些能力可定制用於應用的物種。Centura 5200 eMax最高燈絲溫度為2500oC,真空度為1E-7 Torr,基材尺寸為8英寸,有利於涉及鋁互連和深溝技術的應用。該系統的其他功能包括高級編碼自動化和配方管理,以提高流程的可重復性和性能。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200 eMax的閉環成像和對準功能優化了吞吐量,並確保了可靠的操作,而無需手動幹預。此外,綜合工藝監測允許實時數據收集和統計分析多個光刻步驟。AMAT Centura 5200 eMax的運行精度極高,為定制和優化提供了大量選項。其處理各種電子束曝光服務的能力,以及多層光致抗蝕劑的沈積和去除,使其成為先進晶圓處理的理想解決方案。
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