二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax #9244054 待售

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ID: 9244054
晶圓大小: 8"
Oxide etcher, 8" Loadlock type: Narrow body (2) eMax Chambers Controller AC Rack Generator rack Buffer robot: VHP+ Turbo pump: ALCATEL 1603 ENI 28B RF Generator RF Rack MFC Type: AERA 770FC-770AC.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax是一種半導體,可實現晶圓蝕刻、沈積、剝離和清潔反應器。該設備能夠處理各種配置的基板,並具有一系列的吞吐量能力。Centura 5200允許精確控制工藝參數,最大限度地提高模具產量和盈利能力。Centura 5200配備了多個旨在優化生產過程的創新組件。它具有一個靈活的Endura工藝室,可以配置以滿足個別工藝需求。該室采用斜壁PECVD(等離子體增強型化學氣相沈積)工藝,通過將所有工藝合並為一個系統來提高吞吐量。這個腔室有一個高精度的平臺,確保完美的晶圓對準,允許精密蝕刻和沈積。此外,零壓縮邊緣隔離(ZCEI)技術在室內實現,進一步提高了對工藝參數的控制,改善了整體流程。Centura 5200Further通過持續監控過程條件的吞吐量保護機制確保過程控制。這是AMAT Trusted Integration體系結構的關鍵組成部分,它提供認證的過程控制並保證質量。該單元還采用先進的真空設計技術,允許清潔工藝室和更快的周期時間。反應堆配有各種專門的沈積/蝕刻工藝,旨在滿足獨特應用的需要。它配備了氮化矽沈積技術,提供了更高的保形性和優越的介電性能。金屬蓋茨沈積技術能夠產生密集的硬面層,在蝕刻階段保護底層特征。此外,該機器還利用Smooth Surface濕清洗和蝕刻工藝在生產過程中優化晶片的清潔度和均勻性,顯著提高了後處理性能。Centura 5200由一個集成的工具平臺提供支持,該平臺旨在促進高效的工具監控和管理。它配備了Smart Alarm Manager,可實現過程監控的高效自動化,並有助於防止生產成本高昂的標線。性能分析平臺允許用戶識別潛在問題並實時管理生產過程。最後,資產配備了統一的雲API(應用程序編程接口),可跨設備互操作性和工具到工具連接提供無縫集成和統一控制。AMAT Centura 5200 eMax是一種強大的半導體晶片蝕刻、沈積、剝離和清潔反應器。該設備具有全面的工藝控制、先進的沈積/蝕刻工藝以及集成的模型平臺,非常適合生產先進的半導體器件。
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