二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi #164775 待售
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ID: 164775
Reactor
ATM 2 Chamber configuration
AC Rack:
3 Phase, 208 V, 400 A
CB1 Trip unit: 500 A
GFCI option: Yes
Water leak detect option: Yes
AccuSETT controller: Yes (3 channel)
5 Phase controller: Yes
Loadlock:
Type: Narrow body
Wafer mapping: Yes
Wafer slide detect option: Yes
Baratron: MKS
Transfer chamber:
Robot type: HP
Center finder: OTF
Slit valve plate: Insert O-ring type
Col down chamber: Yes (#F position only)
Robot blade: Quartz
Process chamber (2 Chambers):
Chamber typeL: EPI ATM
Susceptor: 0200-01932
Pre heat ring: 0200-35081
Susceptor support shaft: 0200-00412
Wafer lift shaft: 0200-00412
Upper dome: 0200-35084
Lower dome: 0200-35042
Temp pyrometer: (3ea) with AUX
Baratron: 1000 Torr
AMV: (2ea) Inner/outer
Blower type: VSB
Blower motor: Baldor
Gas panel:
MFC Unit 1660
ETC:
Umbilical cable: 55 Ft
Transformer:
TR: 480/208V, 130 kVA
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi是一款先進的等離子體增強沈積設備。它是一個批量型反應器，常用於沈積先進的材料，如矽、、、、、、等，用於集成電路製造。AMAT Centura 5200 Epi具有業界領先的垂直和水平基板配置,可實現最高水平的可擴展性和生產靈活性。APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi由兩個混合感應耦合等離子體源提供動力，提供高度均勻的低壓沈積。它配備了Endura Ion Energy Shaping III（IES III），這是一種專有技術，能夠實現精確的表面自限制和層層沈積均勻性。這些層由高性能的介電層和金屬化層組成。離心氣體噴射器（CGI）和運行結束冷卻系統設計為允許快速冷卻和循環利用，以最大限度地延長循環時間。CGI允許快速、精確和可重復地將主要工藝氣體引入反應堆。這通過維持熱平衡來提高沈積室的效率。該設備還具有遠程運行結束冷卻剖面,使腔室在切換到惰性大氣之前能夠快速達到安全溫度。通過快速冷卻工藝室,確保最大循環時間和顆粒控制.Centura 5200 Epi還配備了一套軟件,包括流程配方和嚴格的控制技術。該設備可配置為高溫、高速率沈積,用於更高的吞吐量應用。此外，內置的非接觸晶圓溫度測量機為過程控制提供了快速、準確的現場溫度測量。總體而言,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200 Epi是用於高精度、高可靠性生產過程的完美工具。其獨特的特性組合使其能夠提供半導體行業所要求的最高水平的材料沈積均勻性和可擴展性。
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