二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP #137526 待售
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已售出
ID: 137526
晶圓大小: 6"
Tungsten WxZ / HeWEB system, 6"
(2) Deposition and (2) etch chambers
Process: CVD W
Standard Centura frame
SoGware Version: E3.0
System Power Rating: 208 VAC 3Phase
Loading Configura(on: Narrow Body Dual AutoIndexer Loader
Chm Positon A: HeWEB. Chamber: Gases/Chemicals Used: Customer specific
Chm Positon B: HeWEB. Chamber: Gases/Chemicals Used: Customer specific
Chm Positon C: WxZ. Chamber: Gases/Chemicals Used: Customer specific
Chm Positon D: WxZ. Chamber: Gases/Chemicals Used: Customer specific
Chm Positon E: Mul( Slot cooling Chamber: Gases/Chemicals Used: N2
Chm Positon F: Orient chamber
System Configuration:
AMAT CENTURA 5200 Standard Mainframe Body
AMAT CENTURA 5200 Mainframe Transfer Chamber
(2) Narrow Body Loadlock Chamber
(2) WxZ Process Chamber
System Controller/AC Power Box
CRT Monitor with Light Pen
RF Generator rack
Currently stored in a warehouse.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP是一種PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）反應器，用於半導體晶圓基板和其他電子元件的批量生產。它是一種高通量、可配置的臺式機工具,具有多脈沖配方,在操作條件下具有精確的可重復性和無與倫比的一致性。AMAT Centura 5200 MxP由於其靈活的模塊設計-包括一個特殊的「多路復用器」模塊,旨在支持多達9部獨立影片,因此可以從同一運行中提供多部影片。這使最終用戶能夠實現更高的吞吐量和更少的生產步驟。5200 MxP基於MxP硬件體系結構,旨在通過集成新的工具組件和流程提供最大的靈活性和可擴展性。它包含一個膜沈積過程中底物溫度精確控制的表面跟蹤系統，一個金屬離子等離子體蝕刻的反應性離子設備，以及一個先進的調節內部環境的反應控制系統。反應堆配有擴散屏蔽裝置，可確保整個基板上的沈積一致，減少不良的電和熱效應。此外，5200 MxP還有一個再循環對流冷卻系統，在基板表面保持精確的溫度輪廓，允許高性能薄膜。APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP內置動態反饋控制（DFC），可實時響應沈積條件並進行修正調整。此功能有助於在整個基板上保持均勻的厚度,同時還可減少任何不良影響,如電應力和熱應力。Centura 5200 MxP的整體設計以快速的速度提供了可靠和可重復的結果,使其成為大規模大批量制造應用的理想選擇。它的集成設計，結合先進的反應控制和溫度控制系統，保證了任何種類的底物均勻和優越的效果。
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