二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP+ #293820614 待售

ID: 293820614
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Oxide dry etcher, 8" (4) DXZ Chambers HP Robot DS80 Dry pump (3) DS700 Dry pumps (4) NESLAB 150 Chillers (28) HORIBA Digital MFCs Gases: CO, N₂, C₄F₈, O₂, CF₄, CHF₃, Ar 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP+是半導體反應堆,屬於半導體制造系統Centura平臺的一部分。該設備能夠對各種溫度和工藝氣體進行精確的沈積過程控制,從而實現高度可靠和可重復的薄膜沈積。該反應器配有調制器聚焦室(MFC)和凈化室,可提供卓越的溫度均勻性和過程控制。MFC通過均勻的氣流和溫度改善了反應環境。這為即使是最復雜的沈積技術提供了卓越的均勻性和可重復性。清除室有助於清除沈積過程後留下的殘留副產物,同時確保低汙染水平。它還配備了半導體工業標準工藝模塊,包括沈積源、氣體輸送系統和基板加熱器。作為模塊化系統,AMAT Centura 5200 MxP+允許定制工藝室以滿足客戶的需求,並提供包括Magnetron Sputter Source、Cold-陰極Source和Vari-Pulse Sputter Source等選項。該單元還與傳統的Metallization和Wet Clean Processes兼容,如PECVD、PVD、ALD和CVD。機器的模塊化設計使用戶能夠調整工藝室配置,以滿足他們特定的工藝需求。APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP+是一種高度可靠且可重復的工具,提供多種配置,是半導體制造的理想選擇。該資產還具有較低的預算和較快的周期時間,有助於最大限度地提高盈利能力並確保一致的流程性能。模型使用的先進質量控制機制和監控軟件也確保了沈積過程的每一步都得到適當的監控和控制。它的模塊化設計還允許將來根據需要進行性能增強和定制。這使Centura 5200 MxP+成為滿足各種半導體制造需求的理想選擇。
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