二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I #9186211 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I
ID: 9186211
晶圓大小: 8"
Poly etcher, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 I期是一種高性能等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)反應器,設計用於高純度、低應力沈積膜的沈積。該反應堆具有感應耦合等離子體(ICP)蝕刻、離子註入、等離子體增強原子層沈積(PEALD)等廣泛的加工技術。晶片床可以處理多達三百毫米(300毫米)和六英寸(6英寸)晶片,汙染最小。它利用一個氣箱為任何晶圓尺寸創造一種穩定和可再現的化學性質,從而確保每個礦床的均勻厚度和平滑度。晶片床采用溫度控制,確保每個工藝周期的基板溫度相同。AMAT Centura 5200 Phase I配備了優化的微波功率設備,其效率和功率都比以前的型號更高。該系統可確保它為處理諸如蝕刻和沈積等步驟提供更一致的功率。還對薄膜沈積過程中的顆粒計數進行了優化。該設備具有多種工藝功能,使用戶能夠處理各種材料。針對薄膜沈積、硫化物蝕刻和陽極鍵合工藝進行了優化,可用於沈積氮化物、多晶矽、氧化物、銅等薄膜。此外,該反應堆能夠沈積無定形和多晶材料,從而能夠快速原型或推出產品。機器還帶有一個溫度控制器,可以設置為目標所需的晶圓溫度。反應堆還設計了自動壓力和流量控制工具,以保持一致和優化的工藝室壓力。它還配備了碳氫化合物監測儀和多通道射頻流量計,以優化工藝重復性。APPLIED MATERIALS Centura 5200第一階段旨在在安全性和可靠性方面超越行業標準。符合SEMI安全標準並獲得CE認證。它還有一個深紫外線燈,其保質期比傳統的汞燈更長,保證了清潔無菌的沈積環境。對於正在尋找可靠、堅固、安全的PECVD資產的客戶來說,這個反應堆是一個絕佳的選擇。
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