二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD #9036839 待售

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ID: 9036839
晶圓大小: 8"
PVD Sputter System, 6" Chamber type: Position B: AL Standard body, 12.9" Source Position F: (1) CH & Standard orienter degas Wafer type: SNNF Type As-is.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD(物理氣相沈積)反應器是為高級工藝開發而設計的強大而精確的工具。這種工業級沈積設備提供了最先進的技術,可以提供高純度、高性能的沈積物,用於生產各種用途的薄膜材料。該系統具有外延、無定形和多晶沈積能力,具有良好的均勻性和可靠性,具有高效的能量傳輸和低背景室噪聲的獨立環境。AMAT Centura 5200 PVD反應堆的整體設計包括一個封閉的前裝載室,密封以防止外部汙染物進入。反應室內是一個穩定的環境,有助於將溫度均勻性保持在較低水平,同時向成功的沈積作業所需的多種獨立過程氣體提供均勻的動力。此外,前部裝載室是可訪問和設計的快速,安全,方便樣品裝卸。APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD反應堆的關鍵部件包括一個多區石英射頻基板支架,它允許用戶調整工藝氣體的停留時間和流動狀況。它還具有有效分散基板以實現均勻沈積的能力。反應堆還配備了多個淋浴總成,這樣可以使工藝氣體均勻分布,更好地控制沈積均勻性。此外,5200 PVD反應堆提供溫度控制和冷卻能力,以便有效地除熱,以維持穩定和低溫的環境。基於機器人的集成部件處理單元通過提供自動化的樣品處理操作,確保了一個幹凈高效的過程。總之,Centura 5200 PVD(物理氣相沈積)反應器是一種高性能的機器,為薄膜層沈積應用提供了優越的效果。它提供了出色的統一性、控制性和穩定性,其創新的設計降低了過程的復雜性,並消除了頻繁維護的需要。這種可靠、高效和通用的工具是高級流程開發的完美解決方案。
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