二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Ultima TE #293768621 待售

ID: 293768621
晶圓大小: 8"
HDP CVD System, 8" SECS Interface UPS Interface CRT Monitor Light pen interface Floopy: 3.5" FPD Chamber location / Type Position A / ULTIMA HDP Position B / - Position C / - Position E / Multi-slot cooldown with cool water Position F / Orienter narrow hoop.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Ultima TE是一種高性能材料沈積的高度先進的基於等離子體的反應器。該反應堆能夠生產用於一系列技術應用的高質量薄膜。它提供了各種各樣的特性,使其與傳統的高壓化學沈積(HPCD)系統區分開來。5200 Ultima TE結合了高效的等離子體源,允許優越的薄膜質量沈積。這是由於在施加的等離子體中離子和帶電粒子的高密度,從而確保晶片對晶片的均勻沈積。此外,反應器還具有射頻離子源,可以實現最大的沈積速率和對薄膜沈積速率和均勻性的精確控制。5200 Ultima TE還利用先進的低噪聲射頻匹配,有助於減少相鄰腔室的熱幹擾和射頻泄漏幹擾。這不僅提高了薄膜質量,而且提高了晶圓平面的均勻性。此外,該反應堆還具有降低沈積應力的低排放冷卻技術,從而提高了底物和薄膜的質量。5200 Ultima TE還具有多氣體等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)系統。該系統允許氧化矽和氮化矽薄膜的高質量沈積。反應堆中使用的軟件還提供各種氣體和工藝參數的穩定和調諧能力,允許高均勻性薄膜。此外,此系統還支持高級晶片對晶片的控制,從而最大限度地減少任何邊對邊的差異。5200 Ultima TE支持多寬度處理功能,可提供並行處理功能。這樣可以保持高達320瓦的功率並達到每小時5,000個晶圓,從而顯著縮短晶圓處理時間。總體而言,AMAT Centura 5200 Ultima TE是一種用於高性能材料沈積和加工的最先進的等離子體反應堆。反應堆可用於PECVD、增強蝕刻、優化真空處理等多種先進工藝。該反應堆提供了一套廣泛的特點和技術,利用高效的等離子體操作優越的薄膜質量和均勻性。
還沒有評論