二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP #118471 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200 WxP是一種高性能化學氣相沈積（CVD）反應器，專門設計為一種用於生長超薄膜和納米結構的多功能平臺。它是一種高度靈活、高溫（最高1000 °C）的CVD設備,具有廣泛的功能和特點。AMAT Centura 5200 WxP有兩個獨立的反應室。反應堆主室是CVD系統的心臟，第二室用於沈積前、沈積後等輔助過程。主反應堆室能夠同時處理直徑4英寸的晶片，在整個表面具有很高的熱均勻性。反應室的最高溫度為1000 °C，1°C增量範圍為0-1000 °C。它配備了可編程的高溫氣體輸送單元、溫度控制和氣體混合機，以及用於精確氣體輸送的質量流量控制器。CVD反應堆配備了多種創新技術，包括專有的脈沖氣體加載工具、實時數字溫度控制資產以及主反應室內的雙石英犧牲窗。APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP還具有各種工藝氣體的熱和非熱集成的先進能力,並同時支持多達四種不同的源氣體。Centura 5200 WxP的獨特功能之一是其閉環技術,它能夠自動化和精確控制CVD沈積過程,而無需任何手動幹預。這使得自動化的過程控制與最低限度的人工幹預。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP可用於沈積多種薄膜和納米結構材料，如金屬、氧化物、聚合物和官能化材料。它是一個先進的沈積平臺，能夠沈積各種復雜的材料，從納米級結構到高k介電材料。該模型的高溫和纖薄沈積能力使其非常適合用於涉及超薄膜和納米結構的研究應用，如量子計算和傳感器。AMAT Centura 5200 WxP是一款功能強大、用途廣泛的CVD設備，能夠生產出多種薄膜和納米結構。其先進的實時溫度控制、脈沖氣體載荷、多工藝氣體能力，使其成為復雜納米結構和功能材料沈積的理想選擇。通過閉環自動化,APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP非常適合需要精確溫度控制和效率的研究和工業應用。