二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxZ WCVD #9008251 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxZ WCVD（化學氣相沈積）反應器是一種先進的半導體加工設備，設計用於將薄膜層沈積在表面，用於一系列產品。Centura 5200 WxZ專為用於復合半導體和金屬應用的均勻保形薄膜而設計。這是通過多種技術實現的，包括低溫物理氣相沈積（PVD）、大氣壓化學氣相沈積（APCVD）和廣域化學氣相沈積（WCVD）。Centura 5200 WxZ配備了高真空室，用於清除沈積環境中的雜質，減少過程中受到汙染的機會。此外，該室還配備了多室晶片處理設備，能夠在沈積薄膜的同時高效裝卸晶片。晶圓處理系統也使得在處理過程中容易監視和控制每個晶圓。反應堆還設有一個綜合的、由計算機控制的原位氣體輸送裝置，該裝置精確地輸送、監測和控制氣體流動和輸送介質，以便在沈積過程中達到最大程度的均勻性。Centura 5200 WxZ是一款功能強大、高性能的機器,具有更高的精度能力。它能夠為廣泛的產品沈積各種厚度和質地的薄膜，包括氮化​​的氙（GaN）和氧化​​的移行（GaO）薄膜，以及用於光電應用的金屬-氧化物-半導體（MOS）結構。此高級工具使用戶能夠實現更高的流程重復性和更高的吞吐量。Centura 5200 WxZ除了提供精確的控制外,還提供卓越的可靠性和耐用性。該資產由堅固的材料構成，這些材料設計用於在最具挑戰性的條件下的優越操作。它還具有先進的過程控制模型,使用戶更容易實時監視和修改參數,從而確保始終保持最佳性能。總體而言，AMAT Centura 5200 WxZ WCVD反應堆是一種可靠而強大的設備，用於沈積薄膜，並在一系列應用中實現卓越的工藝重復性。其先進的晶圓處理系統和精確的氣體輸送裝置使用戶能夠實現均勻保形的薄膜，並具有最大的可重復性。機器優越的制造質量也使它成為一個堅固耐用的設備，能夠承受甚至最具挑戰性的條件。