二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #118476 待售
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ID: 118476
晶圓大小: 8"
Poly Etch DPS System, 8"
Centura 5200 mainframe
Phase II facility
HP Robot
Widebody loadlocks
Position A: DPS R1 Poly Etch
Position B: DPS R1 Poly Etch
Position C or D: DPS R1 Poly Etch
Position E: Orienter
Advanced Energy RF20R generator
Advanced Energy RF5S generator
Amat 0 Heat Exchanger
Neslab HX-150 chiller.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是一種先進的半導體蝕刻反應器,為蝕刻應用提供高性能光刻解決方案,可用於復雜電路的生產。它為各種應用需求提供了廣泛的蝕刻和沈積解決方案,對於可重復的高質量結果非常可靠。該設備采用雙源等離子體發電和多個自動補充泵送系統的獨特組合設計。雙源等離子體允許應用蝕刻多層材料或更為復雜的基板和特征尺寸。真空室還具有「Load-lock」功能,允許芯片在最小化汙染物的同時快速裝卸。AMAT Centura 5200能夠提供廣泛的薄膜厚度、輪廓形狀和特征尺寸。系統配備了自動化的軟件功能,允許用戶定制流程配方,更準確地控制單元。它還提供了廣泛的串聯環境監測和反饋控制功能,使機器能夠快速識別過程異常並做出適當響應。APPLIED MATERIALS Centura 5200可以處理多種材料,包括SiO2、SiC、Al2O3、GaAs、GaN等材料。該工具還支持高級蝕刻過程,如磁性記錄介質的蝕刻和MEMS應用。它還能夠產生具有高產率和優良蝕刻均勻性的均勻膜沈積。Centura 5200提供了廣泛的過程變量,包括溫度、壓力、時間、反應物氣體和其他可設置以滿足特定應用需求的參數。它還提供了卓越的過程控制和可重復性,使用戶能夠在生產中獲得一致、高質量的結果。此外,該資產的擁有成本較低,可為用戶提供可靠操作的長使用壽命。
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