二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #123066 待售

ID: 123066
晶圓大小: 8"
PVD system, 8" Process capabilities: CVD/Anneal and PVD (3) Chambers Chamber 1: CVD with liquid delivery system (LDS) and vaporizer Chamber 2: PVD Chamber 3: MAC-Anneal Controller type: VME Reduced pressure: YES External cooling: water cooled Accessories: Degas chamber Orienter chamber (2) Heat exchangers MAC blower RF generator rack Halo 650 system controller rack Cryo compressor System cables (2) Monitors.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200(AMAT Centura 5200)是一種金屬有機化學氣相沈積(MOCVD)反應器,設計用於沈積金屬氧化物化合物,如氧化氘錫(ITO)。該反應堆的設計具有優越的工藝緯度和均勻性,提高了高視野應用的工藝重復性和重復性。APPLIED MATERIALS Centura 5200使用兩個獨立的處理室。腔室設計由一個鋁氧化物上腔操作與完全平衡的熱墻設計。下室采用冷墻設計操作,采用石英墻施工。兩個腔室都註入一氧化二氮(N2O),循環並提高了工藝氣體的均勻性。該反應堆具有先進的源構型,支持沈積氧化錫和其他金屬氧化物化合物。氣源包括林德低溫源、IBH和Novellus Gas Control Panel (GCP)。由於Montelli軟件的專有,所有來源都配備了預熱和針狀閥門系統,這些系統產生高度均勻的沈積物,配方一致性極佳。Centura 5200還配有雙視口,用於無損原位光學端點檢測和氣體控制,用於精確控制反應堆中的所有氣體成分,以及特定材料和應用的定制沈積參數。該系統是為高吞吐量而設計的,單個工具能夠同時處理2個晶圓。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200具有低壓低溫操作模式,以提高沈積均勻性。該反應器還具有高溫退火後的能力,可精確控制薄膜的微觀結構和厚度。總體而言,AMAT Centura 5200是一種先進的MOCVD反應堆系統,在多種底物上提供均勻精確的氧化物沈積。其直觀靈活的平臺為金屬氧化物的精確沈積提供了顯著的靈活性和控制,使其成為高FOV應用的理想選擇。
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