二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #188648 待售
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已售出
ID: 188648
優質的: 1999
RTP annealing system
Software version: B6.20a
System power rating: 208 VAC, 3 phase
Loading configuration: narrow body dual auto-indexer loader
Ch position A: ATM RTP XE chamber N2, O2
Ch position B: ATM RTP XE chamber N2, O2
Ch position D: single wafer cooling chamber N2
Ch position F: single wafer cooling chamber N2
Configuration:
(1) AMAT CENTURA 5200 standard mainframe body
(1) AMAT CENTURA 5200 mainframe transfer chamber
(2) Narrow body load lock chambers
(2) RTP XE chambers
(1) HP+ robot wafer handling assembly
(1) System controller / AC power box
(2) CRT monitor with light pen
Remote components:
(2) Ebara dry pumps, A30W
Bay Voltax heat exchanger
No equipment manuals
Currently installed
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種用於半導體芯片生產的高性能、可靠的電子束反應器。這種腔室式反應堆專門設計用於處理快速吞吐量、嚴密的工藝控制參數、最大產量和苛刻的生產周期。AMAT Centura 5200的特點是將一件式端視室放置在真空外殼內,車身和電氣部件,如電源、加熱元件、壓力表和室門放在上面。一件式腔體由不銹鋼制成,專門設計用於保護半導體芯片免受空氣中粒子和反應性物質的汙染。APPLIED MATERIALS CENTURA 5200的腔室充滿了氮氣等惰性氣體,然後加熱到最高400攝氏度的溫度。這個溫度使氣體的壓力增加到1.2 torr左右。氣體隨後被電子束槍在腔內爆炸。腔內爆炸產生的等離子體適合於加工、蝕刻和將薄膜和材料沈積到半導體芯片上。鍋爐是由兩個獨立元件組成的組件,一個機動化的外缸和一個介電歧管,有助於控制腔內的射頻場分布,確保最佳均勻性。內缸由確保低電損耗的陶瓷支架固定到位,有助於等離子體均勻性和保持一致的晶圓均勻性。腔室背面的電子束槍用來點燃工藝氣體,然後將射頻能量施加到晶圓上。為了控制工藝參數,Centura 5200提供了一系列不同的電源選項,可實現高精度和高精度。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200反應堆能夠提供超過1000攝氏度的峰值溫度,並具有清晰的溫度輪廓,以確保該過程以正確的速度進行。AMAT Centura 5200的工藝均勻性和晶圓均勻性位居業界前列。總體而言,APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種先進、高性能和可靠的電子束反應器,能夠提供高度可重現和可靠的半導體制造,並提高產量和縮短生產時間。它旨在滿足最苛刻的半導體生產要求,並提供更高水平的工藝精度和工藝控制。
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