二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9116514 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200
ID: 9116514
晶圓大小: 8"
DLH CVD System, 8" (4) Chambers.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是一種高性能的化學氣相沈積(CVD)反應器,旨在制造用於半導體工業的高質量薄膜和器件結構。它能夠在直徑不超過200毫米的晶片上沈積銅、的、鎢和其他薄膜。AMAT Centura 5200最多可容納28個晶圓,同時加熱基板,在基板上均勻度可達± 3°C。CVD反應堆配有高性能LaB6(六硼化​​的移熱源),以及先進的快門控制、雙氣體能力和脈沖流量控制,以提供高性能CVD薄膜所必需的溫度和均勻性。APPLIED MATERIALS Centura 5200旨在提供均勻的薄膜沈積和整個晶片的均勻性,為沈積盡可能從晶片到晶片變化最小的高質量薄膜提供必要的均勻性。Centura 5200還配備了幾種工藝監控工具,確保了準確、可重復的薄膜沈積。其中包括一個實時光發射光譜(RTOES)系統,該系統提供過程周期中等離子體環境的信息,以及一個離子收集系統,測量環境中離子的發射光譜。這些系統收集的數據可用於準確監測沈積過程,並根據需要進行調整,以確保高質量的薄膜。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200配備了氣流控制器和真空泄漏檢測器系統,以防止由於底物暴露於大氣中的反應性化學品濃度而造成沈積誤差的可能性。AMAT Centura 5200還包括大量計算機控制的儀器和數據處理工具,使復雜的CVD過程的集成和控制變得更加簡單和快速。總體而言,APPLIED MATERIALS Centura 5200被設計為半導體行業的高性能CVD反應堆,具有廣泛的特點,包括精細的工藝控制能力、同時雙氣體沈積以及顆粒收集和監測。它的先進功能旨在提供一個統一和可重復的沈積環境,從而確保高質量薄膜的生產。
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