二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9182239 待售
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ID: 9182239
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
SACVD System, 8"
Process: eMax
Mainframe
AC Power rack
Chiller:
Buffer chamber
Cool down chamber with NBLL
HEWLETT-PACKARD Robot
Wafer shape: SNNF
SMIF Interface: NO
Chamber A / B / C: eMax
Chamber F: Orientor
Load lock A / B: Narrow
(6) Wafer sensors
SMIF: No
EPD Controller
Chamber A / B / C:
RF Match: 0010-30686
RF Generator: OEM-28B
ALCATEL ATH1600M Turbo pump
Throttle valve
MKS TYPE627 1TORR Mono meter
Mainframe information:
System placement: System alone
Robot type: HP+
L/L Wafer mapping
Slit valve & plate type: Standard
Robot blade: AL
W/F Slippage sensor
N2 Purge
Heat exchanger (Chiller): No
System monitor: Stand alone
System placement: System alone
Dry pumps:
Chamber A / B / C / D: No
Load lock: No
Transfer: No
Gas panel configuration:
Chamber A / B / C:
(6) Channels
SF6 / 100 Sccm / STEC SEC-7740
N2 / 100 Sccm / STEC SEC-7740
O2 / 100 Sccm / STEC SEC-7740
CF4 / 100 Sccm / STEC SEC-7740
CHF3 / 200 Sccm / STEC SEC-7740
AR / 200 Sccm / STEC SEC-7740
Missing parts:
(2) Slit valves
Electrical:
Line frequency: 50 / 60 Hz
Power: 208 VAC, 4 Wires, 3 Phase delta
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種高度先進的反應器，用於矽片在各種溫度和壓力水平下的化學氣相沈積（CVD）。該反應器具有獨特的雙附著電池設計，為沈積材料提供了卓越的均勻性和均勻性。這座反應堆配有多個部件，以支持最先進的CVD工藝。這包括一個多區線性加熱器電源，多個氣源和控制，多個射頻和微波源，一個真空系統，以及一個四級壓力控制器。這個反應器還包含一個固定的磁化器，允許在晶圓上具有極好的溫度均勻性。AMAT Centura 5200提供兩種不同的腔室類型，無論是圓形還是矩形腔室。每個腔室最多可容納16個2英寸或4個8英寸晶圓，並且可以承受高達1200 °C的溫度。這使得二氧化矽、氮化矽和碳化矽等材料的沈積不會發生任何熱降解。反應堆可以手動或全自動模式運行，用戶可以控制壓力、流量和每個過程的時間等參數。這使得反應堆能夠提供可重復和一致的過程結果。在工藝監測和控制方面,APPLIED MATERIALS Centura 5200具有現場診斷功能,包括石英振蕩器和四極質譜儀（QMS）。AMAT還可以與全套流程控制軟件集成在一起，用於流程優化和可編程配方。Centura 5200設計用於提供均勻的沈積速率和一致的沈積材料折射率。以其緊湊可靠的設計，是半導體工藝集成和先進材料研究應用的絕佳選擇。
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