二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9186584 待售
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ID: 9186584
RTP System, 8"
Specifications:
Connection: Delta
Mainframe: Centura I
Ch. configuration:
Ch A: RTP Mod 1
Ch B: RTP Mod 1
Ch C: No
Ch D: No
Ch E: No
Ch F: Single slot cool down
Robot(HP): HP
Robot blade (Reduce contact): Quartz
LL (Wide with tilt-out): Narrow body, tilt-out
LL Slit valve (Chemraz): Chemraz O-ring
Signal cable: 25ft
Heat exchanger: No
VME
Controller and system AC Rack
Gas panel:
Gas feeding: Top feed SLD
Gas 1: N2 20slm, STEC 4500
Gas 2: O2 10slm, STEC 4500
Gas 3: N2 20slm, STEC 4500
Gas 4: O2 10slm, STEC 4500
Process chamber: Mod 1
Bottom purge: No
Manometer: 1000 torr/Single
Ch Gas feed: Single feed
Butterfly throttle valve: 1/chamber
Wall cooling: PCW Cooled wall
Chamber clamp: Clamp with bolt
SiC Coated process kit: None
Lamp controller: Luxtron 100C
Power requirements: 208V, 550A, 60Hz
1996 vintage.
AMAT（應用材料）AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種高性能的化學氣相沈積（CVD）反應器。該設備用於在半導體和其他表面上形成薄膜，方法是將含有所需薄膜材料的蒸氣沈積到表面上。該系統的目的是沈積可用於各種電子和光電應用的超細均勻薄膜。AMAT Centura 5200反應堆采用石英管設計，能夠處理單個和多個晶圓模塊。它具有用戶友好的基於GUI的單元,使用戶能夠輕松設置過程參數,如溫度、壓力和流速。該機還具有兩個獨立的加熱區，可用於支持不同的溫度剖面和工藝制度。必須仔細監測和保持溫度，以確保最佳沈積結果。該裝置裝有先進的氣體輸送工具，用於精確的流程氣體流動管理。這確保了準確和可重復的過程結果。該資產能夠處理範圍廣泛的材料，包括矽、移植物、氮化氙、藍寶石、碳化矽和金剛石。APPLIED MATERIALS Centura 5200設計用於支持高質量薄膜的沈積,具有出色的可重復性。該型號還配備了自我診斷和監控能力，有助於確保可靠和安全運行。這包括過程流的自動關閉和溫度控制（如果不符合預設條件）。設備的溫度、壓力和架子溫度都可以用電腦系統實時監控。這為用戶提供了重要的反饋,以確保最佳流程操作。該單元還能夠提供高級亞微米光刻（ASMP）功能。可以進行超精確的掩模對準和光刻，以形成復雜的特征和結構，具有極好的分辨率和最小的失真。機器還可以配置為支持旋轉塗層、蝕刻和離子植入等多種技術。Centura 5200是一種可靠且用途廣泛的反應堆,可為用戶提供一系列應用的出色沈積功能。它為可靠的長期使用而精心設計，並提供先進的工藝參數監測和控制，以確保一致和可重復的結果。
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