二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9188519 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9188519
晶圓大小: 8"
優質的: 2003
HDP CVD System, 8"
Ultima TE process chamber
Wafer shape: SNNF
EMO Type: Turn to release
Chamber configuration:
Chamber A: HDP Ultima TE process chamber
Chamber B: HDP Ultima TE process chamber
Chamber C: HDP Ultima TE process chamber
Chamber E: Multi cooldown chamber
Chamber F: Orient chamber
Loadlock configuration:
Loadlock type: Wide body
Auto rotation
Cassette type: 200mm
Mapping function: FWM
Vent type: Variable speed
Fast vent option
Mainframe configuration:
Buffer robot type: HP+
Buffer robot blade: Ceramic blade
Remote monitor: Table mount
Clean system: RPS ( Remote plasma) clean
Sub-system configuration:
Chiller
RF Generator type: ETO
Gas panel configuration: Normal gas panel
Turbo pump: ADIXE ATH2300M
Gate valve: NC
Electrical configuration:
Line voltage: 208V
Full load current: 320 A
Frequency: 50/60Hz
CE Safety mark: English
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200反應堆是一種單晶圓熱處理設備，能夠制造先進的半導體集成電路（IC）。它是半導體制造商用於蝕刻、清潔和與設備制造相關的其他操作的工具。該系統具有六級工藝室構型，允許引入各種腐蝕性、侵蝕性和其他化學物質進行各種處理。AMAT Centura 5200反應堆支持多種工藝，包括幹濕蝕刻、沈積、清洗、鈍化和金屬濺射。它采用專利區域級控制技術和獨特的雙氣體晶片旋轉裝置進行設計，從而能夠精確控制刀具各級的工藝條件。這些技術的結合使激光能夠精確控制熱過程，從而能夠制造出更高水平的集成和性能。該工具設計用於大批量生產環境，能夠每小時處理多達500個晶圓。通過帶有觸摸屏顯示屏的直觀圖形用戶界面（GUI）提供對機器操作的訪問,該顯示屏允許優化參數控制和快速訪問流程數據。該工具的特點是一套自動化的公用設施，提供一系列的功能，以方便反應堆的運行。這些措施包括人員安全、晶片跟蹤、晶片批次質量控制和自動晶片設置，從而能夠監控過程歷史以確保可重復的性能。APPLIED MATERIALS Centura 5200反應堆的設備可最大限度地減少與芯片制造相關的環境和安全問題。其目的是盡量減少化學品接觸和與生產先進的集成電路有關的其他危險條件。該資產符合包括SEMI S2和S8在內的各種法規和標準。總之，Centura 5200反應堆是一種高度先進的熱處理模型，旨在滿足下一代半導體制造的要求。它的一套功能提供了一系列自動化的公用事業，以方便操作和減少潛在的安全和環境風險。它是一種能夠滿足高級IC制造的最高性能和可重復性水平的工具。
還沒有評論