二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9205664 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200
ID: 9205664
優質的: 2003
CVD System, 8" Open cassette (4) WxZ MCVD Chambers Transfer robot: HP Robot (9) Gas channels RF Generator: ENI OEM-12B3 (Each chamber) RF Matcher: 0010-09750X (Each chamber) 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reactor是一系列先進的基於氧化的工藝模塊,旨在在當今多樣化的半導體制造環境中提供卓越的性能。該模塊提供多種功能,例如雙腔室設計,以提高均勻性,並具有高達20 Torr的高壓能力,非常適合小型功能尺寸。此外,AMAT Centura 5200還提供高效的熱管理設備,包括一臺高功率射頻發電機,可確保增加穩定性和控制溫度平衡。該反應堆是AMAT完全集成的Centura平臺的一部分,該平臺包括一套全面的硬件、軟件包和輔助設備,包括一個手動控制接口、多個儀表端口等,用於各種應用。APPLIED MATERIALS Centura 5200提供了針對氧化物沈積、氧化物蝕刻和CVD工藝優化的多室工藝系統,使得下遊的矽烷、下遊的氮化物和下遊的氧化物能夠同時進行。這讓用戶可以方便地將反應堆配置到自己的應用,無論是通過與CVC軟件的無縫集成,還是通過使用可以與反應堆集成的APPLIED MATERIALS自動化包。同樣,該設備與各種硬件組件兼容,以確保提高過程控制,提高準確性和可重復性。這些組件包括集成的旋轉基板支撐、溫度控制模塊、過程可控晶片卡盤、側壁產品支架和質量流控制器。在材料兼容性方面,Centura 5200被設計為與廣泛的材料一起使用,包括SiO2、SiNx、Si、Al2O3和W.此外,反應堆可以調整到特定的底物,讓用戶達到優化的工藝條件。此外,該機先進的控制算法和集成的自動調諧功能提供了先進的過程均勻性和晶圓之間的最小變化。這樣可以確保晶片級100%的產量和更高的設備性能。最後,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200反應堆在現代制造環境中提供了先進的工藝控制、高速運行和卓越的可重復性,可優化設備性能。
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