二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9247619 待售
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ID: 9247619
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
DPS Etcher, 8"
Wafer shape: SNNF
EMO Type
Chamber configuration:
Chamber A, B: DPS Metal process chamber
Chamber C, D: ASP Process chamber
Chamber E: Cool down chamber
Chamber F: Orient chamber
Load lock:
Load lock type: Narrow body
Auto rotation
Cassette type, 8"
Mapping function: FWM
Fast vent option
Mainframe:
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT Buffer robot
Buffer robot blade: Stander blade
Status light tower
Remote monitor: Table mount
(2) Chillers: HX-150 and Stead head0
(2) OEM-12B3 RF Generators
Gas panel configuration: VME1
EBARA ET800WS-A Turbo pump
NESLAB System II Heat exchanger
Control rack
Local AC rack
Accessories
Cables
Electrical configuration:
Line voltage: 208 V
Full load current: 300 A
Frequency: 50 / 60 Hz
CE Marked
1997 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是一種高效、全自動的化學氣相沈積（CVD）反應器，旨在滿足電子、光電、硬塗層和太陽能電池行業苛刻的生產要求。AMAT Centura 5200提供了可擴展和模塊化的配置,允許處理各種材料和工藝室。它利用水平和垂直熱均勻性水平來滿足精確的沈積過程。高速沈積和提高反應堆穩定性增加了吞吐量，同時保持了精確的結果。高溫工藝室的設計允許快速晶圓通量和精確的沈積控制。其先進的物理氣相沈積工具集提供了高度精確的物料來源、動態氣體控制和定制氣流設置。此外,它還具有較高的端點精度和較大的氮化物處理能力.APPLIED MATERIALS Centura 5200具有高度的多功能性,可提供高級自動化和程序化功能以產生重復的處理結果。其專有的室內結構提供了卓越的溫度均勻性和改進的可重復性和整體性能質量。Centura 5200適用於一系列材料，如矽、氧化鋁、多晶矽以及一系列金屬和合金，最高溫度為900 °C的應用。該系統可配置為可容納4到8英寸的晶圓尺寸,從而增強了靈活性。AMAT提供的總體維護包包括全面的預防性維護、技術IT支持和軟件升級。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種功能強大且可靠的CVD反應器,專為先進的材料沈積而設計,不需要長時間的冷卻和加熱周期。該系統是制造商希望提高效率和提高工藝性能的理想解決方案。
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