二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9248821 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200大氣壓CVD/PECVD反應器，是一種先進的等離子體輔助化學氣相沈積設備，用於沈積用於MEMS、高K、屏障、介電、各向異性和低k應用的薄膜。它具有高度通用的腔室設計，能夠滿足下一代技術節點的需求，通過低溫處理提供高縱橫比的均勻性和選擇性。AMAT Centura 5200反應堆系統包括4英寸石英室、過程壓力控制、多氣體註入、全功能室加熱和溫度控制、高達254 MHz射頻等離子體源和湍流泵送單元。該腔室設計為在大氣層和溫度範圍內運行，提供300 mTorr至760 Torr的寬處理範圍。它配備了兩個254 MHz 13.56Mhz RF偏置源,總功率高達500瓦。各種工藝配置允許同時操作多個沈積配方。APPLIED MATERIALS Centura 5200反應堆機器還具有詳細的過程控制功能,允許您調整、監控和優化反應性氣流、過程壓力、腔室溫度和每個過程配方特有的表面溫度。它還包括一個流程監控用戶界面，它允許方便的工具設置和配方測試。高級數據記錄功能可持續監控沈積過程。Centura 5200反應堆還支持先進的沈積控制功能，如實時過程監控和實時輪廓測量，以實現速度和層均勻性優化。反應堆先進的等離子體輔助沈積技術使高溫過程步驟的低溫沈積得以實現，最大限度地降低了底物損壞和汙染的風險。還配備了高溫蝕刻能力，用於更靈活的工藝配方。這種先進的反應堆資產使您能夠在保持最佳工藝質量的同時實現廣泛的工藝目標。它非常適合原型和小型傳感器的生產、研發以及新的技術開發實驗室。