二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9251052 待售

ID: 9251052
晶圓大小: 8"
優質的: 2005
CVD System, 8" WXZ (4) Chambers 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種先進的低壓、單晶圓反應堆設備,設計用於為先進的微電子、MEMS和光電應用提供高質量的等離子體薄膜沈積。該系統利用經過驗證的AMAT處理技術,為時間關鍵的工藝步驟(如柵極蝕刻或保護層或平面層)提供均勻、無缺陷的薄膜沈積。AMAT Centura 5200配備了包括電子回旋共振(ECR)或感應耦合等離子體(ICP)源在內的多種沈積源,以及高向上渦流磁場,以利於均勻可重復的薄膜沈積。此單元采用高度模塊化、可擴展的設計來實現多個源配置。為便於沈積特定的薄膜層和特征,提供了各種源定制。該機器具有500晶圓/小時的極高吞吐量,有助於最大限度地提高生產效率。此外,其先進的基板溫度控制能力有助於最大限度地減少熱應力,並確保一致和可重復的結果,即使對於精致的基板。此溫度控制可幫助APPLIED MATERIALS Centura 5200消除對溫度敏感的應用程序的猜測,並最大程度地減少工藝步驟的數量。該工具還具有一個集成的等離子體控制資產(PCS),用於對等離子體源進行可靠的控制,從而能夠對工藝參數進行精確的調整和微調。利用集成的端點監控,用戶可以在沈積過程中監測分析氣體消耗、壓力、射頻功率、溫度等各種參數。這有助於確保過程達到最高標準,並使模型保持峰值性能運行。為方便起見,Centura 5200包括一個集成的負載鎖,使設備能夠在批量生產環境中運行。這種負載鎖定及其高吞吐量功能使AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200成為尋求快速高效擴展生產輸出的高級生產環境的理想選擇。總體而言,AMAT Centura 5200是各種沈積應用的絕佳選擇。其可擴展性和靈活性,加上先進的等離子體控制、高吞吐量、溫度控制能力,使其成為微電子和光電行業要求苛刻的生產應用的理想選擇。
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