二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9261088 待售
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ID: 9261088
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
CVD System, 8"
Process: HPTEOS
(2) Loadlocks
Robot assembly
(3) CVD Deposition chambers
Chamber type: DxZ
Includes:
(5) EBARA Pumps
System controller
AA20 Loadlock pump
AA40W Pump
AA70W Pump
AA20 Buffer pump
ADCS TEOS Cabinet
TEOS Canister size: (5) Gallons
Process tank pressure (Liquid Cabinet), TEOS: 35
AMAT 1 Heat exchanger
Heat exchanger temperature: 65°C
Mainframe:
OTF
HP End Enduro Robot
VEXTA Stepper motor, 5-Phase
Process chamber:
(3) ADVANCED ENERGY RFG 2000-2V RF 1 Generators
(3) ADVANCED ENERGY PDX 900-2V RF 2 Generators
(5) ADVANCED ENERGY 3155094-003A RF Matches
MKS 122BA-0100EB-S Pressure manometer, 100 torr
Pressure control: Throttle valve
0040-32148 Heater
Process temperature: 400°C
MFC Gases:
N2: 3 slm
O2: 50 sccm
NF3: 500 sccm
C2F6: 500 and 1000 sccm
O2: 2 slm
He: 1 and 2 slm
LFM: STEC, TEOS 1.5 g/min
0500-01047 Endpoint
3870-04383 Injector valve
IV Line temperature, TEOS: 100
Gasline temperature: 100
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種高性能的半導體晶圓製造反應器，設計用於先進的封裝裝置生產。該反應堆建立在APM獲得專利的等離子體增強型化學氣相沈積（PECVD）技術之上。AMAT Centura 5200是利用PECVD技術的先進封裝半導體晶圓制造反應堆。5200型號提供了生產缺陷最小的優質芯片的有效手段。該反應堆能夠進行金屬和介電沈積、蝕刻和後處理。PECVD提供了高精度的工藝重復性，改進了對氧化物應力和薄膜厚度的控制，並提高了抗靜電損壞的能力。這使得使用APPLIED MATERIALS Centura 5200制造的芯片能夠以卓越的可靠性實現高產操作。Centura 5200可以處理直徑從2英寸到12英寸不等的晶片。反應堆配備了先進的運動控制系統，以及先進的熱控制和物料處理系統，以實現最大的生產精度和可重復性。反應堆設有兩個反應物氣體混合器和自動氣流控制裝置，以確保生產的最高精度。這些功能允許特殊工藝,可以提高AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200上生產的芯片的質量。AMAT Centura 5200提供了廣泛的功能，包括精密的工藝控制、快速固化、優越的附著力、提高的產率和降低的粒子生成。這樣可以以較低的成本生產質量更好的芯片。反應堆的先進技術也使制造商能夠探索新的、更具成本效益的工藝。為確保最佳性能,APPLIED MATERIALS Centura 5200配備了診斷系統,可檢測系統問題並允許進行故障排除。工廠支持團隊可以為需要系統幫助的客戶提供幫助。Centura 5200反應堆為任何半導體生產挑戰提供了強大而高效的解決方案。該反應堆采用先進的PECVD技術，可提供高性能和可靠的芯片生產。這樣可以提高產量、提高芯片質量和降低生產成本。反應堆還具有廣泛的特點，包括先進的運動控制、熱控制、材料處理系統和自動氣流控制。其靈活的設計使得AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200成為任何半導體制造生產線的理想伴侶。
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