二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9364581 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種高度先進且用途廣泛的半導體加工反應器,設計用於閘後絕緣沈積、鹽化物和原子層沈積(ALD)應用。它是半導體制造中使用的工業標準沈積設備。該反應器主要用於制造薄膜晶體管、半導體、發光二極管、傳感器和其他半導體組件。AMAT Centura 5200采用模塊化設計,減少了對復雜單晶圓轉移臂的需求,使操作能夠更高效地進行。它還具有模塊化、自動對準源和目標、電容耦合等離子體(CCP)蝕刻、用於超低壓沈積的遠程等離子體源(RPS)以及用於高蝕刻速率的集成磁性限制等離子體(ICP)系統等多種先進功能。這使得它適用於常規熱氧化、高速率濺射沈積、氮化矽高溫沈積等多種應用。APPLIED MATERIALS Centura 5200以其低溫氣體輸送裝置,為高端半導體器件加工提供高度均勻、保形的薄膜沈積。它能夠提供直徑高達15埃的特征,非常適合柵極絕緣層和接觸層。Centura 5200的真空環境還允許對電介質、金屬和其他材料進行高度精確和可重復的處理。該機還能夠直接鏈接到多個蝕刻源,包括等離子源離子植入(PSII)、等離子體蝕刻深反應性離子蝕刻(DRIE)、反應性離子束蝕刻(RIBE)。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200還提供了一系列自動化控制系統,使操作員能夠在操作員監督極少的情況下執行高級別的雜項配方。它擁有全套的視覺檢查、機器學習能力、多個烤箱配置以及廣泛的樣本準備算法。這樣可以確保設備結果一致且可重現。綜上所述,AMAT Centura 5200是為半導體處理應用而設計的高度先進且用途廣泛的工具。它提供了廣泛的功能,包括模塊化設計、用於超低壓沈積的AVS和RPS、低溫氣體輸送資產、多種烤箱配置以及自動控制系統。這使得它非常適合生產先進的半導體元件。
還沒有評論