二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9401874 待售
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ID: 9401874
Dry oxide etcher
Dual process chambers
Control
Power cabinet
Transformer module
SEIKO Turbo pump controllers
RF Cabinet
(2) ENI OEM-12B3 RF Generators
(2) BOC EDWARDS iQDP80 Vacuum pumps
(2) iQDP40 Vacuum pumps
(2) SMC INR-496-002D-X007 Recirculating chillers
Power supply: 208 V, 3 Phase, 60 Hz, 72 kVA.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是一種高性能、多用途的反應堆，專為大批量生產半導體器件而設計。該室的最高工藝溫度為650攝氏度，並具有超高純度的氮和氫氣氛，為要求最苛刻的蝕刻、沈積和雜質去除應用提供了最高程度的熱穩定性和清潔性。AMAT Centura 5200配備了多種先進技術，包括多模等離子體源和極高高溫能力，使用戶能夠同時進行多種先進工藝，以實現最高的生產力。該源能夠產生各種用於蝕刻、剝離或植入過程的低功率等離子體、離子轟擊和高功率射頻等離子體。在一個令人印象深刻的30千克/厘米²壓力下，全陶瓷crucible構造，六個元素氣體狹縫閥允許過程流量被精確控制和調節。高溫烤箱提供精確維護和調節的溫度，而機械檢查窗口由視口和輻射屏蔽層組成，以進一步保護用戶免受危險條件的影響。溫度均勻性和溫度穩定性由由多個內外傳感器組成的直觀溫度控制設備保持。先進的、易於編程的數字監視器允許用戶監控室內氣體成分、碗壓、氣流和基板溫度等多種參數。APPLIED MATERIALS Centura 5200的冷卻系統能夠對腔室的各個部分進行可靠且均勻的冷卻,其冷卻周期可以根據特定的工藝要求進行定制。此外，該室還配備了多個安裝組件，便於方便清潔的安裝、維護和搬遷。最後，室內隔離裝置可確保盡量減少任何工藝損失和汙染，而一臺綜合空氣凈化機可確保安全的工作環境。因此,Combined Centura 5200提供了無與倫比的價格/質量比例,使眾多用戶能夠從其高級功能集中受益。
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