二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i #9211673 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i是一種先進的等離子體反應器，設計用於半導體加工。它采用錨定多電極陣列，提供具有完全工藝控制和精度的蝕刻和沈積速率。反應堆采用獨特的等離子體腔室設計，允許等離子體密度在任何給定的速率或功率水平下進行優化，確保即使在高功率水平下的均勻性和可重復性。AMAT Centura ACP P3i能夠支持多種基於等離子體的過程；包括蝕刻、沈積和沈積蝕刻。它能夠支持低k電介質蝕刻、SiGe選擇性和毯狀沈積，能夠實現更高的SRAM密度和更快的存儲單元形成，從而提高設備的產量和可靠性。APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i使用先進的等離子體源技術以及先進的診斷和控制系統進行過程控制和優化。它能夠實現最具挑戰性的結果，如低蝕刻率、高沈積率和短周期時間。Centura ACP P3i配備了高效的電極分布，有助於最大限度地減少底切，從而提高工藝質量。反應堆的質量流設備在整個過程中提供準確的氣流，基板冷卻系統有助於保持準確的溫度。其低功率損耗和低能耗導致每晶片成本降低和生產效率提高。該P3i有一個堅固的安全單元，具有故障安全離子源和密封鋼坯測試硬件與NIST跟蹤控制。該P3i的設計符合SEMI安全標準，與大多數晶圓廠自動化系統兼容，與現有設備集成。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura ACP P3i是一種功能強大且可靠的反應堆,可提供卓越的過程控制和可重復性。它提供了許多專為高級半導體加工而量身定制的特性和功能。其先進的等離子體源技術使它即使在具有挑戰性的工藝條件下也能提供精確、可重復的結果。此外，其堅固的安全機器、經濟高效的生產方法以及與自動化系統的兼容性，使其成為先進晶圓制造的絕佳選擇。