二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance #9055082 待售

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ID: 9055082
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
RTP system, 12" (3) Chambers (A, B, D): Radiance RTP Gas, MFC full scale: N2 Frame 20000sccm/NH3 30000sccm N2O(30000)/He 5000sccm/N2 Low 500sccm O2 Low 10000sccm/O250000sccm/N2 50000sccm N2 BOT 50000sccm/He BOT 50000sccm/N2 MAG 100000sccm Parts missing: 0190-16691 Load Port 2set 0190-02506 Interlock board 0040-52348 Lamp head Equalization valve 0190-25863 FI Controller(Master) 0100-00658 Back plane board RH35M-4DK FI Fan 0150-04117 Flat cable 0040-52348 Lamp head 0190-25863 FI Controller(SLAVE) 1080-01264 Lift motor 9101-1999 Lift driver 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance是一種高性能、自動化的大氣化學氣相沈積(CVD)反應器,設計用於制造先進的半導體和光電器件。該反應堆由一個石英噴頭和圓柱形室以及一個先進的控制系統組成。腔室分為三個獨立可控的加工區,允許設置和維護廣泛的加工參數。腔室有四種可獨立調節的氣體分布,用於輸送氫氣、氙氣、氮氣等工藝氣體,從而增加了柔韌性和控制力。AMAT Centura ACP Radiance使用可編程微波源,提供準確、均勻的等離子體加熱,允許更快的工藝時間和改進的膠片性能。微波源提供了根據工藝要求改變微波輻射功率和頻率的靈活性。該反應堆采用可編程熱管理系統(PTMS),通過調制微波功率在整個處理周期內提供精確的溫度控制。這有助於盡量減少區域不平衡造成的不均勻性。APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance具有直觀的圖形用戶界面,易於操作和編程。該控制器還提供實時過程監控和主動故障保護,以提高過程穩定性和可重復性。為確保反應堆以峰值性能運行,可能會增加一些可選組件,如離子源、渦輪泵和射頻發生器。與其他CVD沈積系統相比,Centura ACP Radiance提供了更高的吞吐量、更好的可靠性以及更高的產量和生產率。它能夠在先進的半導體和光電材料中創建復雜的特征和圖樣,使其成為制造超薄膜和高k電介質的理想工具。廣泛應用於薄膜晶體管、集成電路、微機電系統、LED晶片等先進電子元件的制造。
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