二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP RP #9170816 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP RP是一種高效的半導體反應器，設計用於高級電路處理。該反應堆能夠在最復雜的晶片上執行20個復雜的蝕刻過程，同時產生極高的電路精度。Centura等離子體工藝提供優於市場上任何其他化學氣相沈積（CVD）或蝕刻系統的室控制和過程復雜性。AMAT Centura ACP RP有兩個渦輪泵站，每個泵站都能抽出0到1.2 torr的範圍，還有兩個混合功率為35kW的大功率電子回旋共振（ECR）源。該設施還設有兩個石英反應物氣體入口和兩個石英質量流量控制器，從而能夠精確控制工藝氣體。此外,APPLIED MATERIALS Centura ACP RP的超大型加工室提供了符合反應性離子蝕刻（RIE）和熱線化學氣相沈積（CVD）工藝的低壓源。在特性方面，Centura ACP RP包括一個高解析度的激光幹涉儀，用於檢測由於過程漂移導致腔室內的任何錯位。該系統還包含多個分布式應用程序端口,用於同時操作和控制多個過程步驟。由於技術的更好同步,這使得流程具有更高的準確性和可重復性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP RP是高級電路處理的理想選擇,因為它具有先進的過程復雜性,因此在速度和產量方面表現出色。此外，該設施的超大型腔室在目標晶片上保持均勻沈積，從而能夠以更高的精度合並多層。AMAT Centura ACP RP提供的優越腔室控制也使其適合於CIP（Clean-In-Place）處理，顯著減少交叉汙染和潛在產品缺陷。總體而言,APPLIED MATERIALS Centura ACP RP是一種可靠的半導體反應器,可保證卓越的工藝性能,並實現極其復雜的電路處理。Centura ACP RP具有先進的功能、強大的設計和廣泛的功能,是芯片制造商的理想選擇,他們需要從蝕刻或沈積過程中獲得極高的精度和可重復性。