二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP #293738973 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP是一種先進的生產反應堆，旨在提供高通量的制造工藝能力和可靠性。該系統非常適合沈積通常用於半導體和光伏制造業的多個薄膜層。AMAT Centura ACP結合了石英「冷壁」主室、基於矽半導體的熱壁敏感器和低熱負荷、快速移動的線性掃描。這種設計元素的組合有助於減少制造缺陷、減少停機時間和提高產品一致性。ACP具有一個五位晶片負載鎖，可一次快速方便地將多達五個晶片加載到主腔室中。主室呈圓柱形，包括熱墻敏感器、石英盾構管和冷墻窗口。冷墻由一塊石英組成，在操作過程中，石英的作用是使腔室的外部與工藝氣體隔絕。該壁對於各種工藝化學可以互換，可以同時支持幾種工藝配方。為提高工藝均勻性,ACP包括一個線性掃描功能,該功能可快速將感知器轉換到整個工藝室的寬度上。這種快速移動的掃描使基板能夠接受均勻的熱處理，並最大限度地減少熱點。它還允許以最小的停機時間對諸如功率、溫度和壓力等過程參數進行更精細的調整。ACP還具有堆叠等離子體源技術和先進的射頻發電機。等離子源技術用於在腔內產生離子，以反應薄膜材料。通過使用兩個獨立配置的等離子體源，系統可以在室內產生汽化的物種，而不會產生任何破壞性的電子效應。並聯射頻發電機可為每個氣源提供高達30kW的峰值功率，確保所有過程的可靠運行。ACP的多熱區域控制器通過在整個沈積過程中精確控制單個區域的溫度,提供了可觀的吞吐量增益。此外,ACP還采用PLC編程實現了過程參數的自動序列和總體控制.所有這些特性都有助於確保過程沈積均勻、循環時間更快、產量提高。總之，APPLIED MATERIALS Centura ACP是一種可靠的高通量生產反應堆，旨在讓半導體和光伏制造商完全控制其工藝。先進的設計元素可以提高工藝的均勻性和產量,減少制造缺陷並提高總體生產效率。