二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler #9027457 待售
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ID: 9027457
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
Dielectric etcher, 12"
Process: Cu 62L, 65L, & 92L
Software version: B2.6_45
System Power Rating: 208 AC 3-Phase for system
Loading configuration: 3
Ch-A: Etch chamber 1
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-B: Etch Chamber 2
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-C: Etch Chamber 3
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-D: Etch Chamber 4
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-TC: Transform Chamber
Gases used: N2 (venting)
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler是一種高溫化學氣相沈積(CVD)反應器和真空沈積室。它被設計用於從半導體器件金屬化的薄層沈積到低溫有機甚至原子層沈積(ALD)的廣泛應用。它非常適合半導體器件生產在各個行業,包括內存,醫療和MEMS器件生產。AP Enabler是以低溫真空室為基礎,該室具有極好的均勻性和可重復性,具有其他工業CVD反應器無法比擬的溫度穩定性。該設備有一個10軸高移動速度的機械臂以及精確的運動控制,以便在沈積過程中進行精確定位,並允許形成圖案化的層。室內使用的反應性氣體通過狹窄的管子引入,使潛在的汙染降至最低。AP Enabler還配備了數據記錄系統,可以對氣體流量、壓力和溫度等參數進行詳細分析。數據記錄單元還允許用戶實時調整沈積溫度和壓力等過程參數。其他機器特性包括獨特的氣體跟蹤特性,旨在將反應性氣體從載氣中自動解開,然後再引入腔室,以減輕沈積汙染的風險。AP Enabler工具是一個可靠、經濟高效的解決方案,可以輕松地與其他流程集成,為特定應用程序創建自定義配置。該資產還能夠同時容納多個晶片,並且能夠為高速設備生產提供近乎完美的均勻性。此外,AP Enabler的設計便於維護,其堅固的組件旨在防止與腐蝕相關的損壞並簡化清潔。
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