二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler #9282211 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler是一種多區電子回旋共振（ECR）氣基蝕刻反應器。它專為薄膜晶體管和金屬氧化物半導體（MOS）器件等基於矽的應用而設計。它具有獨特的內部冷卻和偏置源模塊,允許制造高縱橫比功能,從而實現更多的制造功能。Enabler還能夠實現一系列經濟高效的工藝條件,並在整個晶圓上表現出非同尋常的工藝一致性。AP Enabler以恒定功率模式運行，提供高等離子體密度和可重復的配方。ECR等離子體源提供高精度和重復性的高能沈積和蝕刻，使蝕刻均勻性和特征分辨率更高。等離子體源被封閉在一個輻射屏蔽室中，在極低的壓力（10-5毫巴）下操作。ECR源由24GHz、40GHz和60GHz三個螺旋共振組成，每個螺旋具有獨特的作用。它還配備了獨特的磁鐵設備，能夠完全控制整個晶圓的等離子體密度調制，以實現更大的特性均勻性和可重復性。Enabler反應堆建立在AMAT Centura平臺上，融合了高通量和雙腔室設計，允許工藝序列優化。這兩個腔室由加工腔室和裝卸腔室組成。該工藝室包含單晶片冷卻屏蔽層，允許在蝕刻和沈積之前對反應堆進行冷卻和預調整。該鎖載室用於基板進出加工室，不需要專門的真空裝卸系統。Enabler能夠通過多區處理執行無機和有機蝕刻過程。它通過使用多個區域邊界參數（如腔室壓力、冷卻流量和氣體組成）來提供對蝕刻速率的精確控制。這樣就可以根據不同的蝕刻需要量身定制特殊的配方和工藝。它還具有增強的熱管理單元,以實現更準確、可靠和可重復的性能。AP Enabler針對生產規模分析進行了優化,並提供了集成的端點檢測和高級過程控制。該機器的數據收集功能和高級分析支持可重復的過程配方、改進的蝕刻產量和過程可追蹤性。所有這些功能使Enabler能夠滿足半導體制造商高級應用的高產要求。