二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Frame #9293610 待售

AMAT Centura AP Reactor是一種化學氣相沈積（CVD）設備，設計用於半導體工業。它是一種單晶片工具，可配置為在各種介電和金屬基板上形成厚膜或超薄膜沈積。該系統采用獨特和創新的工藝室設計，允許更高的產量和更好的均勻性。其易於調節的基板支架提供了廣泛的工藝參數，從而提高了生產效率。Centura AP反應堆配備了通用加熱單元，允許沈積各種材料，包括Silicon-3 （Si3）、碳化矽（SiC）和二氧化鈦（TiO2）。其多站能力和高溫運行使Centura AP成為各種低k和高級介電應用的理想選擇。這臺機器還配備了一個專有的CVD工具，可以在基板的所有區域生產出厚度均勻的高質量薄膜。該工具還利用了一種高氣體流量的資產，據說這種資產可以顯著減少浴缸的阻塞。通過控制過程溫度較高的反應，模型可以進一步降低金屬擴散。高溫也使吞吐量最大化，減少了粒子量。最重要的是，Centura AP反應堆的有效晶片冷卻設備在腔內和腔外都能快速均勻冷卻晶片。AP反應堆的高級控制器提供了極好的靈活性和易用性。它支持復雜的配方,最多有8個物料來源和10個工藝參數,使工程師能夠快速調整該工具以適應不同的配方和沈積速率。主計算機支持簡單的配方設置、高級流程監控和警報消息傳遞。此外，它還為用戶提供了關於薄膜表征的深入數據和強大的基板控制模塊，使操作員能夠在采集或冷卻時間精確控制基板的定位。而且，Centura AP反應堆提供了增強的安全特性。它包括一支安全筆，在添加太多材料時提醒操作員，在腔室壓力過低時自動關閉功能，以及其他確保安全有效操作的措施。作為最後的觸摸,系統還配備了易於維護的選項,允許快速、輕松的清潔和維修。總體而言，APPLIED MATERIALS Centura AP Reactor是任何需要高效和均勻沈積的半導體生產商的先進和可靠的CVD工具。它以合理的價格提供最大限度的過程控制、單元靈活性和增強的安全功能,使其成為任何CVD應用程序的理想工具。