二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9149535 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X是一種等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器。它為快速、可靠和可重復制造先進的II-VI和III-V半導體薄膜提供了先進的性能。Ultima X能夠為最具挑戰性的設備制造要求生產高純度、高應力和低缺陷的薄膜。Ultima X反應堆設有無壁（自退火）PECVD室，以及傳統的煙道淋浴頭淋浴頭，使低溫不均勻的各種保形膜得以生長。此外,它還提供了可變壓力和溫度控制的過程氣體在淋浴頭.源電源為淋浴頭提供射頻功率的線性調節，以及高達200 MHz的各種等離子體頻率選項。這樣可以實現出色的填充系數和臨界尺寸均勻性。UltimaX還采用了先進的加熱區技術，具有快速上升和下降速率。這有助於減少壓力和防止汙染，同時控制最終的薄膜性能。反應堆先進的石英淋浴頭和基板支架保證了高溫均勻性和優越的薄膜特性。與傳統的噴頭設計相比，高溫均勻性確保了良好的物料傳遞可重復性，並提供了更好的階躍覆蓋。AMAT Centura AP Ultima X耐用的石英成分使其適合難於和溫度敏感的沈積。Ultima X是為提高產量和吞吐量而設計的。它能夠提供標準和非標準的工藝配方。集成控制系統實時更新流程，允許快速優化設備。晶圓溫度、腔室壓力、射頻源、氣流等參數是監測條件，並自動控制。APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X反應堆非常適合原型設計、開發和高性能電子元件的大批量生產。其先進的性能使用戶能夠快速開發、測試和叠代以提供遠遠優越的產品。其優化的設計和高溫均勻性保證了重復可靠的效果。