二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9172654 待售
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ID: 9172654
HDP CVD System, 12"
Factory interface (FI) version: 5.3
Number of load-ports: 3EA
FI Robot type: KAWASKI with edge grip & Pre-aligner (single axis)
Mainframe type: 300mm CenturaAP mainframe
Vacuum robot type: VHP with 2 ceramic blades
LLKA: SWLL
LLKB: SWLL
Chamber configuration:
A: Ultima X HDP-CVD
B: Ultima X HDP-CVD
C: Blank
D: Ultima X HDP-CVD
Process chambers:
Ch#A/B/D : Ultima X HDP-CVD
Process: USG STI & IMD, PSVN
Gas ring & Nozzle type: 36 Ports & 1.76” ALN Nozzles
Cathode type: 300mm Dual HE ESC
RPS Type: MKS Astron RPS
Turbo pump type:
STP-XH3203P (CH A/B)
TMP-H3603LMC-A1(CH D)
Gate valve type: NorCal
RF Generator:
Top/Side: MKS ENI Spectrum (2 MHz, 11 kW)
BIAS: MKS ENI Spectrum (13.56 MHz, 11 kW)
RF Match box:
Top/Side: Local match
Bias: AE AZX72 Auto tune match Box
IHC Type: 20/20 Torr dual IHC
WTM Type: Wafer temperature monitor 4 channels
Gas pallet configuration:
(12) Stick gas pallets (CH A/B)
N2 Purge
O2: 400sccm
NF3: 400sccm
He: 600sccm
SIH4: 400sccm
H2: 1000sccm
AR:1000sccm
SiH4: 50sccm
He: 600sccm
NF3: 400sccm
NF3: 3000sccm
Ar: 3000sccm
N2 Purge
Stick gas pallets (CH D)
N2 Purge
O2
NF3
H2 1000sccm
SiH4
He 600sccm
Ar 50sccm
H2 1,000sccm
SiH4
He 600sccm
NF3
NF3
Ar 3000sccm
N2 Purge
Gas panel feed: Bottom
Exhaust: Bottom
MFCs: Unit 8565C multiflow
Valve type: Veriflo
Filter type: Millipore
Controller type: DeviceNet
Transfer pump: ALCATEL A100L iPUP (1EA)
Primary AC rack: 2EA
Facilities UPS interface
Power requirements:
200/208 VAC, 3-Phase, 400 A, 4-Wire, Frequency 50/60 Hz
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X Reactor是一種半導體器件，用於電介質和金屬膜的沈積。這種高性能設備提供了最新的高吞吐量和精確度,使工程師能夠快速準確地生產各種材料中的復雜結構。AMAT Centura AP Ultima X配備了強大的PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）技術，使其能夠在高溫下快速沈積介電和金屬膜。大基板尺寸，直徑可達300毫米，處理精度高，精度高。低壓、中頻、高功率和低負荷相結合也顯著提高了沈積速率。該系統配有一個精密的控制和監控單元，允許用戶密切監控膠片的沈積。該機器能夠檢測基板上的合格性水平，並具有在不同的濺射水平之間切換的能力，從而能夠沈積高合格性和均勻性的薄膜。該工具利用高容量氣體輸送資產快速輸送氣體，從而提高吞吐量。這還可以確保更快的啟動時間,從而使操作員能夠快速開始該過程。憑借易於訪問和編程的三區工藝室，工程師可以生產出具有理想均勻性和一致性的堅固可靠的薄膜。APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X具有卓越的準確性和可靠性,可實現精確一致的結果。使用自動校準模型後,工程師可以放心,所產生的結果將始終滿足所需的要求。此外,設備的模塊化設計使維護和升級變得容易。總體而言，Centura AP Ultima X Reactor是一種先進的設備，可以用來快速準確地創建復雜的結構。該設備具有廣泛的功能,使工程師能夠以極高的精度和一致性快速沈積介電和金屬薄膜。
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