二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9253668 待售

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ID: 9253668
晶圓大小: 12"
優質的: 2013
HDP CVD System, 12" Chamber A, B & C: Chamber type: Ultima X HDP CVD Gas configuration (sccm): MFC full scale Gas / sccm O2 / 1000 NF3 / 100 HE / 600 SiH4 / 300 H2 / 1000 AR / 1000 SiH4 / 50 HE / 400 AR / 100 NF3 / 3000 AR / 3000 RF Source: 1.8 - 2.17 MHz, 10000W (Max) RF Bias: 13.56 MHz, 9500W (Max) RF RPS: 400 kHz, 6000W (Max) 2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA AP Ultima X是一種用於先進集成電路器件的制造、沈積、蝕刻和工程設計的板式反應器。它具有懸浮在工藝室上方的超低熱膨脹(ULTE)石英板和可調節溫度控制範圍為-60°C至+150°C的次大氣壓室。它的熱管理功能提供了溫度均勻性和過程可重復性,這對於強大的生產環境至關重要。Ultima X反應堆采用多種工藝技術,包括濺射、等離子體蝕刻、碳蒸發、金屬有機化學氣相沈積(MOCVD)、原子層沈積(ALD)以及多種其他沈積技術。這確保了它能夠適應基於半導體的高度先進技術的制造,如絕緣體上矽(TRI/SOI)和FinFET/III-V器件。它還配備了自動化的工具兼容性模塊,以提供跨多個工具集的統一平臺。Ultima X反應堆由於具有產生高工藝通量和低缺陷密度的能力而被廣泛使用。其多工藝單元配有自動互鎖等離子體密封屏蔽裝置,防止等離子體進入相鄰腔室,從而實現卓越的汙染控制。將零件固定在腔室內的可重復使用的籠子為準確的批量裝卸提供了精確的運動控制,確保了快速的晶片處理和伺服電機技術確保了可靠的處理。Ultima X還具有計算機控制的安全系統和智能能源管理功能,使操作員能夠最大限度地利用資源,同時將能源成本降至最低。Ultima X是為多視圖沈積和幹蝕刻工藝流程提供高級集成層的行業領導者。其獲得專利的自動化和控制體系結構為設備生產提供了卓越的工藝重復性、精度和產量。此外,它的散熱設計和超安靜的操作系統使其成為大容量制造應用程序的理想選擇。總體而言,AMAT Centura AP Ultima X是一個高效、可靠和高效的反應堆,繼續為半導體行業提供關鍵的進步。
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