二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9274497 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA AP Ultima X是一種低壓、低溫快速熱處理（RTP）反應器，設計用於退火、摻雜、光刻等應用。它是一個閉環熱設備，利用強制對流傳熱創造可重復和可靠的處理結果。Ultima X提供從-60°C到700°C的溫度控制，最高溫度斜坡速率為600°C/sec，用於快速熱循環。The Ultima X features a chamber volume of 0.35 ft ³ with a 100 mm diamete process tube capable to accommitting up 33 substrates.該室具有易於使用的雙密封門和排氣口，用於排出加工副產品。還為基板加載/卸載提供了水平卡盤。該反應堆由單獨的垂直和水平加熱元件以及同時進行垂直和水平輻照的兩個氙燈提供動力。該單元還配備了APIII集成控制器，提供數字溫度控制，最大加熱/冷卻速率為1°C/秒。此控制器使用310個用戶定義的配方進行預編程,以幫助簡化流程。觸摸屏界面提供了一種為給定進程調整參數的簡便方法。控制器還集成了紅外點火和真空控制系統，並提供了50個用於參數存儲的數據庫插槽。Ultima X提供了一個真空裝置，提供5 mTorr的基本真空水平和可選的增壓泵。集成的真空計確保了精確的控制，強制排氣出口允許過程氣體排出。機器被裝在一個隔離的不銹鋼盒子裏,以便準確和安全地操作.UV-A石英遠紅外雙波長輻射工具允許高效和可重復的熱處理。該窗口允許最佳傳輸來自燈具的輻射能。該單元可與質量流控制器資產集成,以便進行特定的大氣處理。固定的分離式排氣管可確保腔室內的熱狀態均勻,同時將溫度梯度降至最低。AMAT Centura AP Ultima X是理想的低壓、低溫RTP反應器，用於光刻和退火、摻雜等應用。它提供卓越的不銹鋼設計、卓越的溫度控制和精度、集成的真空模型和大氣控制以及分流排氣，以確保均勻的熱循環。該反應堆可確保大多數半導體工藝的重復和可靠的處理結果。