二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9293599 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X Reactor是一種創新的化學氣相沈積（CVD）設備，旨在提供對工藝環境的超精確控制。它使用低壓和低溫蝕刻沈積方法沈積原型半導體薄膜，通常用於制造復雜的多層結構和納米級器件。UltimaX具有卓越的反應性和均勻性,可提高通量和產量。AP Ultima X反應堆能夠生產厚度高達五微米的薄膜，同時保持精確的工藝控制。該系統的智能硬件和軟件設計旨在優化溫度、壓力和氣流,以及化學前體和反應組件,以產生理想的薄膜結構。這個先進的反應堆單元具有大的單室設計，其中包括一個四區氣相沈積機。它允許在各自的沈積區同時使用多達四種不同的前體。Ultima X反應堆還包括用於沈積過程控制的鎖載工具，以及機械快門和惰性技術。高級控制資產提供實時實驗和慢跑，以及對整個過程的全面監控。它還配備了掃描電子顯微鏡，用於高精度測量薄膜沈積厚度和均勻性。此功能可同時監控關鍵工藝參數,如氣流、溫度和壓力。Ultima X的燃燒火焰可以支持高斯分布的和否則各向同性的火焰性質。反應堆還設有負載鎖和集成的質量流控制器，用於裝入和出室。Ultima X的雙室模型允許兩層膜同時沈積，以減少工藝時間，提高整體效率。它還提供了一個先進的安全模塊，以防止危險材料過度暴露。最後,AMAT Centura AP Ultima X反應器是一種高度通用、高效的化學氣相沈積設備.憑借先進的溫度、壓力和氣流控制能力，它提供了精密的薄膜和納米級結構，同時也保持了高水平的安全性。除了高精度和高質量外，反應堆還具有多種特點和優點，使其成為高批量、高質量生產的一個有吸引力的選擇。