二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura CVD #293817404 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura CVD（化學氣相沈積）反應器是一種真空工藝，旨在將多種材料的薄膜沈積到多種基板上。AMAT Centura CVD由高溫反應室、氣體管理設備、溫度控制系統和顆粒去除單元組成。高溫反應室設計用於沈積薄膜，並附著在以下一種或多種前體上：矽烷、二矽烷、硫化氫、二氯矽烷、氯氧化磷、三氯化砷、氙和氮。沈積膜可用於多種應用，如半導體器件制造、數據存儲介質制造和光電子制造。APPLIED MATERIALS Centura CVD的氣體管理機設計為以受控方式以正確的比例將選定的前體輸送至反應室，以達到所需的薄膜組成。氣體管理工具還設計用於控制每個前體的確切輸送速率，包括流速和壓力，以及反應室內的總壓力。此外，它還能夠控制惰性氣體的流動，例如，用於控制反應室內溫度的氙氣或氮氣。Centura CVD的溫度控制資產配置為將反應室內的溫度保持在工藝要求的指定公差範圍內。此模型控制薄膜沈積前、沈積期間和沈積後的溫度,從而可以精確控制工藝參數。另外，溫度控制設備配置為監測晶片基板和沈積膜的溫度，以便於最佳生長。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura CVD的顆粒去除系統設計用於清除沈積過程中產生的任何顆粒。這有助於確保底物上薄膜的高質量生長。除粒裝置利用附著在反應室中的原位真空，連續抽出沈積過程產生的任何氣體或固體汙染物。該機器還包括高效的過濾工具和耐腐蝕材料，以防止顆粒積聚和汙染資產。AMAT Centura CVD是一種極好的沈積模型,它能精確控制沈積過程,並在基板上形成高質量的沈積膜,是任何薄膜沈積應用的理想工具。
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