二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DCVD / DXZ #9293854 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DCVD / DXZ
ID: 9293854
CVD System Parallel plate type: PECVD (SiO2 PTEOS).
AMAT Centura DXZ DCVD/Reactor,或稱CVD Reactor,是一種先進的沈積設備,為異構應用提供精確、高質量的薄膜。該系統采用優質組件構建,設計為在800攝氏度以下的溫度下運行,提供精確的厚度均勻性和對過程的精確控制。CVD反應堆的設計目的是利用高質量的產品最大限度地提高正常運行時間和提高產量。該設備的獨特功能包括自動化流程啟動、強大的流程監控功能,以及一臺可選的熄滅恢復機,可實現配方轉換。此外,該工具還具有精確控制、高穩定性、可容納無限制腔室載荷的加熱環境腔室和可實現高通量的兩級工作穿梭器。資產的集成硬件具有專門設計的磁化器和加熱器桿,可提供高效、均勻的基板加熱,以及對溫度和壓力的精確控制。磁感器的設計進一步優化了薄膜沈積,控制了沈積速率和特征尺寸.無電極靜電卡盤允許處理低表面張力基板。CVD反應堆采用獨特的多區數字控制預熱模型,允許最多9個單獨的預熱區,其設計目的是在整個熱範圍內提供一致的溫度控制。利用多區預熱技術,在不犧牲溫度控制的前提下,可以實現不同工藝選擇,從而大大提高生產吞吐量。先進的安全和監測功能,例如用於控制壓力和反應性氣體的氣閘設備,使操作更加安全和高效。該系統的設計符合最高的安全和性能標準,並已獲得用於腐蝕性氣體和爆炸性氣體的認證。此外,CVD反應堆還配備了實時、特定於氣體的監測器,用於測量氣體分布、連續監測工藝氣體和壓力測量,從而能夠快速檢測工藝故障。APPLICED MATERIALS Centura DXZ DCVD/Reactor是一種先進的沈積裝置,為一系列異構應用提供卓越的精確度和優異的薄膜質量。其先進的安全性和監控特性使其非常適合用於危險材料,而其集成的硬件和多區預熱機則確保了精確的溫度控制和優化的吞吐量。
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