二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura (DPN+) #9174570 待售

AMAT Centura （DPN+）是一種反應堆，設計用於在單晶片和批量加工中提供高性能的反應性離子蝕刻和薄膜沈積。反應堆的設計目的是使加工能力能夠解決制造和沈積敏感和高度規格材料（如III-V裝置制造）方面的挑戰。反應堆有一個先進的控制器，允許用戶訪問新的先進功能，如廣域均勻性、高等離子體密度和高能量進行蝕刻。通過使用標準的多通道源進一步提高了設備的橫向均勻性。APPLIED MATERIALS Centura （DPN+）反應堆采用模塊化設計,使用戶能夠自定義系統以滿足其特定的工藝需求。反應堆上的控制單元設計為跟蹤機器的性能，以保持最佳的整體刀具性能。反應堆還利用先進的診斷，使工藝工程師能夠監測工藝參數，以確保蝕刻速率和其他工藝要求得到滿足。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura （DPN+）能夠對靜電卡盤壓力（ESP）和溫度劑量實現非常精確的控制。該單元還提供多個脈沖選項,允許調整工藝參數以優化蝕刻速率。脈沖技術具有單脈沖和多脈沖等多種脈沖選擇，在運行反應性離子蝕刻時能夠實現更高的蝕刻速率和更好的過程控制。此外,AMAT Centura （DPN+）還配備了高級控制器,可控制蝕刻室的溫度和壓力,以及監控和調整工藝參數的能力。這允許用戶設置工藝參數並確保蝕刻速率和其他工藝要求得到滿足。與傳統的射頻蝕刻工具相比，獲得專利的雙磁控管還能提高離子利用效率，減少汙染。此外,APPLIED MATERIALS Centura （DPN+）還提供了擴展反應堆資產的靈活性,方法是添加更多組件以增加容量,從而使用戶能夠創建高度可配置的模型。有了一系列的多用途配件和額外的工具，用戶可以將反應堆整合到他們現有的生產線中。總體而言,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura （DPN+）反應堆提供了一種經濟高效且可靠的解決方案,可確保正確的工藝性能,同時滿足開發和制造新材料和設備所需的嚴格要求。該裝置具有先進的控制、高性能的特點和廣泛的能力，便於精確控制和準確處理蝕刻過程，並確保過程的穩定性、可重復性和可重復性。