二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPN #9176407 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPN是一種低壓a.c.底部負載沈積/蝕刻反應室，設計用於半導體和集成電路制造中的多種沈積和蝕刻過程。膜覆蓋的石英反應室配備了三個電壓峰值14 KV電源，能夠產生兩種類型的血漿。這兩種等離子體模式是常規的感應耦合等離子體模式（ICP）和直接耦合等離子體模式（DCP）。AMAT Centura DPN的結構設計提供了出色的均勻性和出色的負載卸載重復性。該腔室旨在最大限度地減少顆粒、廢水的發生，並提高可靠性。標配了具有機械性質的數字壓力控制器和輔助設備。腔室設計還允許在所有基板轉移操作和由於內置維護控制臺而進行的所有維護操作中輕松訪問基板。應用材料CENTURA （DPN）具有兩種不同類型的氣源：統一氣源和離散氣源。統一供氣采用RegAuto閥，無論底物如何，所有氣體都具有極好的重復性和最小的過程漂移。離散氣體供應提供了對所有源輸入的精確控制，並提供了廣泛的動態反應可能性。AMAT CENTURA （DPN）為用戶提供對所有工藝輸入（氣流、射頻功率、基板溫度、壓力等）的最佳控制。此外,系統還具有一個自我診斷軟件,該軟件可監視系統的運行狀況,並在故障成為進程問題之前識別出故障。Centura DPN能夠進行各種各樣的蝕刻和沈積過程，包括BOE（緩沖氧化物蝕刻）、各向同性蝕刻、BOE-etch、RIE（反應性離子蝕刻）和CVD（化學氣相沈積）。隨附的軟件包為用戶提供了易於使用的控制和自動化功能,從而提供了復雜的配方和快速的結果時間。最後，CENTURA （DPN）反應器為半導體和集成電路制造的蝕刻和沈積過程提供了一個用戶友好、可靠和精確的系統。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA （DPN）提供可靠的重復性和卓越的一致性,使客戶能夠實現對其工藝參數的最佳控制並獲得所需的結果。