二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPN #9399901 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPN是一種高性能的集成蝕刻/沈積反應堆設備,結合了蝕刻和沈積技術的最新進展。這使工程師能夠創建高度定制的結構，如多介電雙介電膜、MEMS （Micro Electro-Mechanical Systems）設備、超低k介電膜和光波導。該系統專為高容量、高性能環境設計，適用於內存和邏輯器件、3-D集成電路組件、功率放大器、集成顯示電路和光學傳感器等廣泛應用。AMAT Centura DPN的離心泵可以容納精度最高、雜質降解風險最低的材料。該裝置具有獨特的基於快門的裝載機，可以裝載多種蝕刻/沈積材料，並在它們之間進行切換，以獲得最佳的工藝性能。APPLIED MATERIALS CENTURA （DPN）包括四個安裝位置,使用戶能夠精確控制材料的裝載和卸載位置,以便精確地給定目標蝕刻/沈積參數。該工具能夠提供高達10 μ m的各種材料的精確反應性離子蝕刻（RIE）。該資產具有實時RIE壓力反饋，允許在整個過程中精確控制EBSD參數，對蝕刻氣體進行精確溫度控制，對整個基板的溫度均勻性進行精確控制，對蝕刻沈積副產品進行精確控制。CENTURA （DPN）還允許同時使用兩種不同的蝕刻/沈積氣體,從而可以精確控制最終薄膜的最終蝕刻/沈積特性。Centura DPN的其他功能包括：易於使用的圖形界面,能夠精確控制整個過程,以及對性能進行模型監控,以確保在所有蝕刻/沈積條件下均具有最佳性能。該設備采用高性能多變量分析，可精確控制生長、耐火和封蓋層參數。APPLIED MATERIALS Centura DPN提供對整個沈積和蝕刻過程的完全控制,從材料的裝卸到完全控制材料的蝕刻/沈積參數和後處理。最後，該系統能夠實現多個蝕刻和沈積過程的自動化，從而無需操作員切換和混合材料蝕刻/沈積條件。