二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9383829 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA是一種在半導體晶片製造過程中設計用於將金屬氧化物半導體沈積到矽晶片的反應器。反應堆有一個以改良超臨界離子輔助沈積（SIAD）技術建造的腔室。該工藝用於將厚度均勻的保形塗層沈積在晶片或基板上，而不會造成過量的顆粒汙染。該腔室配有石英組件的電源、電源和可塑性的crucibles，以提供高精度的熱控制。AMAT Centura DPS G5 MESAMakes的工藝使用了依賴時間的等離子體源來實現高質量薄膜的精確沈積。這個過程使用氧等離子體，通常產生在400瓦，沈積一個二氧化矽薄膜到晶圓的表面。這種沈積之後是高密度濺射，這樣可以添加額外的金屬。濺射加速了氧化物和金屬顆粒從基板上的傳輸。該工藝能夠控制導電半導體層的類型、厚度和組成。AMAT Centura DPS G5 MESA的外部是一個側面面板,允許用戶監控生成的等離子體,以確保設置參數和最佳增長率內的準確性。該裝置還具有高可靠性的浸沒式氣體供應，將壓力控制的氧氣註入室內，以更好地控制膜的均勻性。包括溫度傳感器、氧氣傳感器和壓力傳感器在內的各種傳感器能夠對過程進行更精確和可重復的控制。APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA的創新設計使其成為同時跨多個工藝站精確一致沈積的理想選擇。該系統得益於精確的射頻調諧，使用戶能夠調整以獲得更好的膠片均勻性和膠片沈積速率。它還提供內部過濾，以防止工藝汙染物進入腔室。用戶可以控制和監視流程的各個方面,以確保獲得最佳效果。Centura DPS G5 MESA是一種高效可靠的反應器，用於將金屬氧化物半導體沈積到矽片上。反應堆具有專利的SIAD腔室設計、用於監測等離子體產生的側板、可靠的氣體供應、各種傳感器以及精確的射頻調諧，允許用戶產生精確的薄膜和可預測的結果。