二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9383831 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA
ID: 9383831
Etcher (3) Mesa chambers Axiom chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA是一種高性能物理氣相沈積(PVD)設備,設計用於鎢屏障和接觸應用。該系統使金屬觸點、低k介電膜、耐火金屬氮化物和氧化物屏障層等先進半導體器件的生產成為可能。該裝置具有先進的性能,為薄膜結構和應力提供了最佳的均勻性和可重復性,從而有助於提高工藝產量。AMAT Centura DPS G5 MESA包含具有多區域技術的高度先進的真空室。它具有先進的熱管理設計,可實現低於1 ppm的目標氣體沈積速率。該機器采用單一的集成刀具體系結構,可實現最大吞吐量,同時確保可重復性。此外,擁有成本低的概念,只有三個部件,沒有額外的氣體或供暖要求。DPS G5 MESA利用多個磁控管創建了一個五區橫向擴散屏蔽(LDS),可配置為優化薄膜均勻性、沈積速率和薄膜應力狀態。資產還配備了一個原位性能單元和一個沈積監測模型,可以進行良好的過程控制。APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA為制造先進半導體器件提供了高速、經濟高效的解決方案。該設備可實現單插槽和雙插槽沈積過程,從而提高生產率。該系統還提供了良好的溫度控制,有助於保持所需的沈積速率和薄膜均勻性。其多區熱管理能力確保腔室和目標的溫度保持穩定,從而提高了工藝的可重復性。先進的LDS設計提供了堅固的均勻性和改進的膠片可重復性。Centura DPS G5 MESA為制造先進半導體器件提供了準確、高效的屏障和接觸沈積工藝。該單元結合了尖端技術,提供了更好的吞吐量、更高的統一性和更好的整體過程控制。其先進的LDS設計確保了均勻的薄膜形成,其集成的性能單元和沈積監測機能夠準確控制沈積過程。此工具是制造先進半導體器件的經濟高效的解決方案,可在批量生產中提供一致、可重復的性能。
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